[发明专利]一种掩膜集成框架及蒸镀装置

摘要

本发明实施例提供一种掩膜集成框架及蒸镀装置，涉及蒸镀技术领域。能够解决蒸镀材料易于在掩膜集成框架上精细金属掩膜版与待蒸镀基板之间间隙处囤积的问题。包括设置有中空区域的中空框架，包括有掩膜图案区以及无效掩膜区的精细金属掩膜版以及第一支撑条，精细金属掩膜版和第一支撑条分别沿第一方向和第二方向跨设于中空框架的中空区域，第一支撑条用于支撑精细金属掩膜版。其中，第一方向与第二方向之间相互交叉，精细金属掩膜版与第一支撑条相交于精细金属掩膜版的无效掩膜区，第一支撑条上设置有凹槽，精细金属掩膜版与第一支撑条相交的无效掩膜区位于凹槽内，凹槽的深度大于或等于精细金属掩膜版的厚度。

主权项

1.一种掩膜集成框架，其特征在于，包括：中空框架，所述中空框架包括有中空区域；精细金属掩膜版，所述精细金属掩膜版上包括有掩膜图案区以及包围所述掩膜图案区的无效掩膜区，所述精细金属掩膜版相对的两端固定在所述中空框架上，所述精细金属掩膜版沿第一方向跨设于所述中空框架的中空区域；第一支撑条，所述第一支撑条的两端设置在所述中空框架上，且所述第一支撑条沿第二方向跨设于所述中空框架的中空区域，用于支撑所述精细金属掩膜版；其中，所述第一方向与所述第二方向之间相互交叉，所述精细金属掩膜版与所述第一支撑条相交于所述精细金属掩膜版的无效掩膜区，所述第一支撑条上设置有凹槽，所述精细金属掩膜版与所述第一支撑条相交的无效掩膜区位于所述凹槽内，所述凹槽的深度大于或等于所述精细金属掩膜版的厚度；所述中空框架为矩形。