[发明专利]一种防辐射的低熔点高弹性玻璃基板在审

专利信息
申请号: 201611188411.3 申请日: 2016-12-21
公开(公告)号: CN106630618A 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 彭寿;曹欣 申请(专利权)人: 蚌埠玻璃工业设计研究院;中国建材国际工程集团有限公司
主分类号: C03C6/06 分类号: C03C6/06;C03C4/08;C03C3/112
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所34113 代理人: 陈俊
地址: 233010 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开一种防辐射的低熔点高弹性玻璃基板,包括按重量百分比的以下原料45.1~55%的SiO2、10.6~15.6%的P2O5、13.4~22.4%的Al2O3、0.1~1%的ZrO2、10.1~15.1%的Na2O、1~5%的K2O、0.1~1%的CaO、1.3~5%的MgO以及0.4~5%的助剂,所述助剂为NaNO3、NaF、CeO2与SnO2的混合物;SiO2与P2O5作为网络形成体氧化物,构建玻璃网络构架,P2O5能够提高玻璃基板在紫外区域的透过率;Al2O3与ZrO2作为网络中间体氧化物,增加玻璃基板的热稳定性和化学稳定性,Na2O、K2O、CaO与MgO作为网络外体氧化物,改善玻璃性能;助剂能够在玻璃基板的制造中起到澄清、脱色与助熔的作用;按本发明原料配比所制得的玻璃基板不仅防辐射,而且具有较高的弹性模量、耐划伤,能够在复杂环境长期使用,并且由于熔化温度低,能够降低生产难度、满足规模制造的需求。
搜索关键词: 一种 防辐射 熔点 弹性 玻璃
【主权项】:
一种防辐射的低熔点高弹性玻璃基板,其特征在于,包括按重量百分比的以下原料:45.1~55%的SiO2、10.6~15.6%的P2O5、13.4~22.4%的Al2O3、0.1~1%的ZrO2、10.1~15.1%的Na2O、1~5%的K2O、0.1~1%的CaO、1.3~5%的MgO以及0.4~5%的助剂,所述助剂为NaNO3、NaF、CeO2与SnO2的混合物。
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