[发明专利]一种防辐射的低熔点高弹性玻璃基板

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃制造技术领域，具体是一种防辐射的低熔点高弹性玻璃基板。

背景技术

紫外线通常指200～400nm波长范围的光线，太阳光中大部分的光线都会被臭氧层所吸收，能够到达地面的光线通常为320nm～400nm的长波紫外线，一定的紫外线对人体是有益的，但是大量的紫外辐射特别是短波长的紫外线对人体有较大损害，尤其是皮肤和眼睛，因此在写字楼、图书馆、博物馆等高档建筑及部分特种灯具上必须最大限度的屏蔽紫外线的辐射。

由于玻璃在高层建筑使用的越来越多，人们对力学等性能的要求越来越高，所以在满足屏蔽紫外线的需求下，还需要使玻璃本体的结构越来越紧密，从而提高了玻璃熔化温度，增加了工业化制备难度。

《一种防辐射玻璃盖板及其制作方法》（公开号CN106113807A）公开了一种防辐射玻璃盖板，包括内侧的高硼硅玻璃层，高硼硅玻璃层外侧设有一层微晶玻璃层，高硼硅玻璃层外侧设置一层防辐射玻璃层，所述防辐射玻璃盖板表面涂有聚丙烯塑料层，其采用多层玻璃的叠加模式，结构和工艺都较复杂。

发明内容

本发明的目的在于提供一种防辐射的低熔点高弹性玻璃基板，该玻璃基板不仅防辐射，而且具有较高的弹性模量、耐划伤，能够在复杂环境长期使用，并且由于熔化温度低，能够降低生产难度、满足规模制造的需求。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种防辐射的低熔点高弹性玻璃基板，包括按重量百分比的以下原料：45.1～55%的SiO₂、10.6～15.6%的P₂O₅、13.4～22.4%的Al₂O₃、0.1～1%的ZrO₂、10.1～15.1%的Na₂O、1～5%的K₂O、0.1～1%的CaO、1.3～5%的MgO以及0.4～5%的助剂，所述助剂为NaNO₃、NaF、CeO₂与SnO₂的混合物。

本发明的有益效果是：

SiO₂ 与P₂O₅作为网络形成体氧化物，构建玻璃网络构架，P₂O₅能够提高玻璃基板在紫外区域的透过率；

Al₂O₃与ZrO₂作为网络中间体氧化物，Al₂O₃能够增加玻璃基板的热稳定性和化学稳定性，从而降低大量氧化磷的加入，减少对玻璃稳定性带来的负面影响；ZrO₂能够增加玻璃基板的弹性以及化学稳定性；

Na₂O、K₂O、CaO与MgO作为网络外体氧化物，Na₂O能够降低玻璃高温黏度；K₂O能够降低玻璃熔化温度、CaO能够提高玻璃基板的弹性和化学稳定性；MgO能够改善玻璃成型性能、降低制备难度，同时也能够提高玻璃弹性；

助剂能够在玻璃基板的制造中起到澄清、脱色与助熔的作用；

按本发明原料配比所制得的玻璃基板应变点≥550℃，弹性模量＞65GPa，熔化温度（10PaS）＜1570℃，紫外透过率（351nm）＜45%。

具体实施方式

本发明提供一种防辐射的低熔点高弹性玻璃基板，包括按重量百分比的以下原料：45.1～55%的SiO₂、10.6～15.6%的P₂O₅、13.4～22.4%的Al₂O₃、0.1～1%的ZrO₂、10.1～15.1%的Na₂O、1～5%的K₂O、0.1～1%的CaO、1.3～5%的MgO以及0.4～5%的助剂，所述助剂为NaNO₃、NaF、CeO₂与SnO₂的混合物。

为了便于更清楚的理解本发明，下面以表格形式列出十六个实施例：

上表中每个实施例均按以下工艺制得玻璃基板：