[发明专利]一种低成本纳米多孔硅粉的制备方法在审
| 申请号： | 201611185114.3 | 申请日： | 2016-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN106672975A | 公开（公告）日： | 2017-05-17 |
| 发明（设计）人： | 汪雷;唐勋;刘友博;张军娜;蔡辉;杨德仁 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | C01B33/021 | 分类号： | C01B33/021;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司33224 | 代理人： | 陈升华 |
| 地址： | 310013 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种低成本纳米多孔硅粉的制备方法，包括以下步骤：硅粉的刻蚀：将预处理的硅粉采用刻蚀液进行刻蚀，经过1‑600min的刻蚀得到含有纳米级孔道的多孔硅，孔径在1‑1000nm；所述的刻蚀液为由HF、金属盐、乙醇和水组成的混合溶液；硅粉的处理：将含有纳米级孔道的多孔硅置于酸性溶液中浸泡，之后经清洗去除杂质，得到纳米多孔硅粉。本发明中，引入金属盐作为刻蚀剂，通过控制腐蚀液浓度可控制多孔硅粉的形貌、孔径、成孔速度等。本发明方法利用反应放热实现常温下制备多孔硅，避免了加热设备。同时反应速度快速，通常在数分钟内即可制备出多孔硅。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低成本 纳米 多孔 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种低成本纳米多孔硅粉的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)硅粉的刻蚀：将预处理的硅粉采用刻蚀液进行刻蚀，经过1‑600min的刻蚀得到含有纳米级孔道的多孔硅，孔径在1‑1000nm；所述的刻蚀液为由HF、金属盐、乙醇和水组成的混合溶液，所述的金属盐为Cu、Fe、Ag离子的可溶性盐中的至少一种；2)硅粉的处理：将含有纳米级孔道的多孔硅置于酸性水溶液中浸泡，之后经清洗去除杂质，得到纳米多孔硅粉。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学，未经浙江大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201611185114.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种制备硅微纳分级结构的新方法
- 下一篇：一种低硼多晶硅及其制备方法
