[发明专利]固定环及抛光设备在审
| 申请号： | 201611143913.4 | 申请日： | 2016-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN108214278A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 陈世忠;彭升泰;谢子逸;纪元兴;陈政炳 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B37/32 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 顾伯兴 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种环绕待抛光工件并且维持待抛光工件与抛光衬垫相对位置的固定环。上述固定环具有内侧壁、外侧壁、连接内侧壁以及外侧壁的底面以及多个凹槽，其中外侧壁环绕内侧壁，底面以及外侧壁的之间具有导角，且在抛光工艺中，底面与抛光衬垫接触，其中多个凹槽位于底面上，每一个凹槽具有彼此相对的第一凹槽侧壁与第二凹槽侧壁，且第一凹槽侧壁的所在平面与内侧壁的所在平面夹锐角且与外侧壁的所在平面夹钝角，第二凹槽侧壁的所在平面与内侧壁的所在平面夹钝角且与外侧壁的所在平面夹锐角，其中第一凹槽侧壁以及内侧壁之间具有导角，且第二凹槽侧壁以及外侧壁之间具有导角。具有上述固定环的抛光设备亦被提供。 | ||
| 搜索关键词： | 外侧壁 凹槽侧壁 所在平面 内侧壁 固定环 导角 底面 抛光衬垫 抛光工件 抛光设备 钝角 锐角 环绕 彼此相对 抛光工艺 | ||
【主权项】：
1.一种环绕待抛光工件和维持待抛光工件与抛光衬垫相对位置的固定环，其特征在于，所述固定环具有内侧壁、外侧壁、连接所述内侧壁以及所述外侧壁的底面以及多个凹槽，其中所述外侧壁环绕所述内侧壁，所述底面以及所述外侧壁之间具有导角，且在抛光工艺中，所述底面与所述抛光衬垫接触，其中所述多个凹槽位于所述底面上，每一个凹槽具有彼此相对的第一凹槽侧壁与第二凹槽侧壁，且所述第一凹槽侧壁的所在平面与所述内侧壁的所在平面夹锐角且与所述外侧壁的所在平面夹钝角，所述第二凹槽侧壁的所在平面与所述内侧壁的所在平面夹钝角且与所述外侧壁的所在平面夹锐角，其中所述第一凹槽侧壁以及所述内侧壁之间具有导角，且所述第二凹槽侧壁以及所述外侧壁之间具有导角。
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