[发明专利]固定环及抛光设备

说明书

本发明实施例提供一种环绕待抛光工件并且维持待抛光工件与抛光衬垫相对位置的固定环。上述固定环具有内侧壁、外侧壁、连接内侧壁以及外侧壁的底面以及多个凹槽，其中外侧壁环绕内侧壁，底面以及外侧壁的之间具有导角，且在抛光工艺中，底面与抛光衬垫接触，其中多个凹槽位于底面上，每一个凹槽具有彼此相对的第一凹槽侧壁与第二凹槽侧壁，且第一凹槽侧壁的所在平面与内侧壁的所在平面夹锐角且与外侧壁的所在平面夹钝角，第二凹槽侧壁的所在平面与内侧壁的所在平面夹钝角且与外侧壁的所在平面夹锐角，其中第一凹槽侧壁以及内侧壁之间具有导角，且第二凹槽侧壁以及外侧壁之间具有导角。具有上述固定环的抛光设备亦被提供。

技术领域

本发明实施例是有关于一种固定环及抛光设备，特别是一种环绕待抛光工件并且维持待抛光工件与抛光衬垫相对位置的固定环及具有上述固定环的抛光设备。

背景技术

随着产业的进步，平坦化工艺经常被采用为生产各种组件的工艺。在平坦化工艺中，化学机械抛光工艺经常为产业所使用。化学机械抛光(chemical mechanicalpolishing,CMP)工艺是将抛光衬垫贴附于抛光承载台上，让装载于抛光头的待抛光工件及抛光衬垫彼此接触并进行相对运动，以移除部分抛光对象之表层，而使其表面逐渐平坦，来达成平坦化的目的。一般来说，在抛光头上设置固定环，可用于保持待抛光工件的位置，防止待抛光工件在CMP工艺中滑出，但由于固定环在抛光过程中亦会与抛光衬垫接触，进而使抛光衬垫的损耗加速，增加制造成本。

发明内容

本发明实施例提供一种环绕待抛光工件并且维持待抛光工件与抛光衬垫相对位置的固定环。固定环具有内侧壁、外侧壁、连接内侧壁以及外侧壁的底面以及多个凹槽，其中外侧壁环绕内侧壁，底面以及外侧壁的之间具有导角，且在抛光工艺中，底面与抛光衬垫接触，其中多个凹槽位于底面上，每一个凹槽具有彼此相对的第一凹槽侧壁与第二凹槽侧壁，且第一凹槽侧壁的所在平面与内侧壁的所在平面夹锐角且与外侧壁的所在平面夹钝角，第二凹槽侧壁的所在平面与内侧壁的所在平面夹钝角且与外侧壁的所在平面夹锐角，其中第一凹槽侧壁以及内侧壁之间具有导角，且第二凹槽侧壁以及外侧壁之间具有导角。

本发明实施例提供一种环绕待抛光工件并且维持待抛光工件与抛光衬垫相对位置的固定环。固定环具有内侧壁、外侧壁、连接内侧壁以及外侧壁的底面以及多个凹槽，其中外侧壁为斜面并环绕内侧壁，底面的所在平面与外侧壁的所在平面之间夹钝角，且在抛光工艺中，底面与抛光衬垫接触，其中多个凹槽位于底面上，每一个凹槽具有彼此相对的第一凹槽侧壁与第二凹槽侧壁，且第一凹槽侧壁的所在平面与内侧壁的所在平面夹锐角且与外侧壁的所在平面夹钝角，第二凹槽侧壁的所在平面与内侧壁的所在平面夹钝角且与外侧壁的所在平面夹锐角，其中第一凹槽侧壁以及内侧壁之间具有导角，且第二凹槽侧壁以及外侧壁之间具有导角。

本发明实施例提供一种抛光设备。抛光设备包括抛光头、抛光衬垫以及待抛光工件。抛光头装载有上述的固定环。抛光衬垫设置于抛光转台上。待抛光工件位于抛光衬垫上方以及固定环内，其中待抛光工件与固定环的内侧壁之间具有间隙，其中在进行抛光工艺中，待抛光工件以及固定环的底面与抛光衬垫接触。

基于上述，本发明实施例的固定环的底面以及外侧壁的之间具有导角、固定环的底面及外侧壁之间具有钝角以及固定环的底面上的凹槽分别与内侧壁及位外侧壁之间经导角的锐角及/或钝角，使得在CMP工艺中与固定环的底面相接触的对象(例如：抛光衬垫)避免受到锐利的尖角撞击，有效降低抛光衬垫损耗(wear out)并改善抛光衬垫的可用时间(available time)，进而延长抛光衬垫的使用寿命并降低制造成本。

附图说明

根据以下的详细说明并配合所附图式以了解本发明实施例。应注意的是，根据本产业的一般作业，各种特征并未按照比例绘制。事实上，为了清楚说明，可能任意的放大或缩小组件的尺寸。

图1A为依据一些本发明实施例的固定环的示意图。

图1B为图1A中的固定环的局部示意图。