[发明专利]一种地瓜的有机化种植方法

摘要

本发明公开了一种地瓜的有机化种植方法，其特征在于，包括如下步骤(1)种子催芽(2)育苗(3)喷洒调节剂(4)移栽(5)后期管理。本发明有机化种植方法简便可行，环保、安全、无污染，可实现地瓜持续无害化牛产，种植效果好，成活率高。解决了地瓜种植营养积累与病虫积累的矛盾，从根本上改善地瓜产品质量，为食品行业提供广泛的原料来源。

主权项

一种地瓜的有机化种植方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）种子催芽：播种前把地瓜种子用43‑48℃温水浸泡3‑4天，取出再用2%浓度的高锰酸钾和硫酸铜按照2：1组成的混合液消毒，摊晒待种子有30%的胚根萌发时即可播种；（2）育苗：选择土层深厚、结构疏松、含腐殖质多的土壤，浅翻细耙，翻耕的同时，施入腐熟的倒细粪肥，作出高18‑20cm、宽1m、长15‑18m的苗床，播种；（3）喷洒调节剂：对地瓜幼苗进行整理，去除掉残株、烂叶，采用采用1%的印楝素水剂600‑700倍液和天然植物生长调节剂0.05%核苷酸水剂500‑550倍液，对地瓜植株进行喷洒处理；（4）移栽：移栽地瓜植株之前的7天深翻土壤350‑400mm，将地瓜按照每穴3‑5株，行距150‑200mm，株距80‑120mm的密度向翻过的土壤中移栽地瓜植株；（5）后期管理：喷洒浓度为1%的波尔多液，每隔7日喷洒一次，共喷3次，壮期期按照用量0.3kg／10m2施硫酸铵， 按照用量0.2kg／10m2施钾肥。