[发明专利]一种地瓜的有机化种植方法

权利要求书

1.一种地瓜的有机化种植方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）种子催芽：播种前把地瓜种子用43-48℃温水浸泡3-4天，取出再用2%浓度的高锰酸钾和硫酸铜按照2：1组成的混合液消毒，摊晒待种子有30%的胚根萌发时即可播种；

（2）育苗：选择土层深厚、结构疏松、含腐殖质多的土壤，浅翻细耙，翻耕的同时，施入腐熟的倒细粪肥，作出高18-20cm、宽1m、长15-18m的苗床，播种；

（3）喷洒调节剂：对地瓜幼苗进行整理，去除掉残株、烂叶，采用采用1%的印楝素水剂600-700倍液和天然植物生长调节剂0.05%核苷酸水剂500-550倍液，对地瓜植株进行喷洒处理；

（4）移栽：移栽地瓜植株之前的7天深翻土壤350-400mm，将地瓜按照每穴3-5株，行距150-200mm，株距80-120mm的密度向翻过的土壤中移栽地瓜植株；

（5）后期管理：喷洒浓度为1%的波尔多液，每隔7日喷洒一次，共喷3次，壮期期按照用量0.3kg／10m²施硫酸铵， 按照用量0.2kg／10m²施钾肥。