[发明专利]用于化学铣削工艺制作镀金铜带微连接线的光刻掩膜版有效
申请号: | 201611015245.7 | 申请日: | 2016-11-18 |
公开(公告)号: | CN106502040B | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | 曹乾涛;莫秀英;龙江华 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十一研究所 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/70 |
代理公司: | 青岛智地领创专利代理有限公司 37252 | 代理人: | 陈海滨 |
地址: | 266555 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于化学铣削工艺制作镀金铜带微连接线的光刻掩膜版。其掩膜版版图结构包括正方形外框以及由正方形外框的四个顶点两两相连形成的两条对角梁,由两条对角梁将正方形外框平分成四个呈等腰直角三角形的有效图形区;每个有效图形区内均设有微连接线图形;所述微连接线图形是由若干个相等宽度、相互平行且等间距设置的微连接线组成,各条微连接线均垂直于对应的有效图形区的斜边;每条微连接线的一端位于有效图形区的斜边,另一端位于有效图形区的一条直角边。本发明中的光刻掩膜版版图结构布局方式趋于合理,光刻转移图形后,再通过化学铣削工艺形成的整体微结构整体受力均匀。 | ||
搜索关键词: | 用于 化学 铣削 工艺 制作 镀金 铜带微 连接线 光刻 掩膜版 | ||
【主权项】:
1.用于化学铣削工艺制作镀金铜带微连接线的光刻掩膜版,其特征在于,所述光刻掩膜版上设有掩膜版图,该掩膜版图采用如下结构布局形式:所述掩膜版图包括正方形外框以及由正方形外框的四个顶点两两相连形成的两条对角梁,由两条对角梁将正方形外框平分成四个呈等腰直角三角形的有效图形区;每个有效图形区内均设有微连接线图形;所述微连接线图形是由若干个相等宽度、相互平行且等间距设置的微连接线组成,各条微连接线均垂直于与所述微连接线图形对应的有效图形区的斜边;每条微连接线的一端位于有效图形区的斜边,另一端位于有效图形区的一条直角边;其中,有效图形区的斜边是指正方形外框的其中一条边;有效图形区的直角边为两条对角梁的交叉点到正方形外框的其中一个顶点的连线。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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