[发明专利]太阳能电池氧化硅层的制备方法及太阳能电池有效
申请号: | 201610985304.7 | 申请日: | 2016-11-09 |
公开(公告)号: | CN106449884B | 公开(公告)日: | 2019-09-06 |
发明(设计)人: | 叶继春;曾俞衡;高平奇;童慧;蔡亮;廖明墩;王丹 | 申请(专利权)人: | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/042 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 郑小粤 |
地址: | 315201 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供一种氧化硅层的制备方法,所述制备方法包括以下步骤:将硅片置于混合酸液中进行氧化处理,所述混合酸液为硝酸、硫酸混合液;其中,所述硝酸、硫酸混合液由68%的浓硝酸、98%的浓硝酸按体积比1:1~10:1混合而成。上述氧化硅层的制备方法,1)可以实现对硅表面更加高效的氧化效果,氧化硅层的硅被氧化的更加彻底,高价态的硅比例升高;2)制备温度低,可以在低至20℃的条件下制备出厚度大于1.4nm的氧化硅层,满足制备太阳能电池的需要;3)处理时间缩短,例如可以在2~4min制备出厚度大于1.4nm的氧化硅层;4)氧化层厚度合适,制备的氧化硅层可以控制在1.0~3.0nm,氧化硅层厚度可以完全覆盖器件所需的厚度要求。 | ||
搜索关键词: | 太阳能电池 氧化 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种太阳能电池氧化硅层的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:将硅片置于混合酸液中进行氧化处理,包括将所述硅片置于所述混合酸液中浸泡2min~4min,所述混合酸液由硝酸、硫酸和乙酸组成,所述硝酸的体积份数为50~90份,所述硫酸的体积分数为10~50份,所述乙酸的体积份数为1~10份,所述硝酸的浓度为68%,所述硫酸的浓度为98%。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的