[发明专利]一种基于GeSbTe相变材料的薄膜器件有效

专利信息
申请号: 201610962686.1 申请日: 2016-10-28
公开(公告)号: CN106374045B 公开(公告)日: 2018-09-21
发明(设计)人: 朱伟玲;陈星源;古迪 申请(专利权)人: 广东石油化工学院
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 代理人: 潘丽君
地址: 525000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种基于GeSbTe相变材料的薄膜器件,包括衬底层、下电极层、第一GeSbTe材料层、二硫化钼层、第二GeSbTe材料层、石墨烯层、上电极层和保护层,所述下电极层、第一GeSbTe材料层、二硫化钼层、第二GeSbTe材料层、石墨烯层、上电极层、保护层依次沉积叠加在所述衬底层上,所述第一GeSbTe材料层为离子掺杂的GeSbTe相变材料层,所述第二GeSbTe材料层为纯相的GeSbTe相变材料。本发明的基于GeSbTe相变材料的薄膜器件具有热稳定性高、一致性好、相变速度快和使用寿命长特点。
搜索关键词: 一种 基于 gesbte 相变 材料 薄膜 器件
【主权项】:
1.一种基于GeSbTe相变材料的薄膜器件,其特征在于:包括衬底层(100)、下电极层(200)、第一GeSbTe材料层(300)、二硫化钼层(400)、第二GeSbTe材料层(500)、石墨烯层(600)、上电极层(700)和保护层(800),所述下电极层(200)、第一GeSbTe材料层(300)、二硫化钼层(400)、第二GeSbTe材料层(500)、石墨烯层(600)、上电极层(700)、保护层(800)依次沉积叠加在所述衬底层(100)上,所述第一GeSbTe材料层(300)为离子掺杂的GeSbTe相变材料层,所述第二GeSbTe材料层(500)为纯相的GeSbTe相变材料;所述第一GeSbTe材料层(300)包括Ti3+、Ni2+和/或Al3+掺杂的GeSbTe相变材料。
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