[发明专利]用于设备的方法、制造掩膜版或显示基板的方法及系统

摘要

本发明公开了一种用于设备的方法，该设备用于制造或使用掩膜版或显示基板，包括如下步骤：提供母版；设置测量点步骤：根据待测掩膜版或显示基板在母版上设置多个测量点，所述多个测量点对应于将对待测掩膜版或显示基板进行像素位置精度测量的位置；测量误差值步骤：将母版置于设备的坐标系下，在各个测量点处测量设备与母版之间的误差值。

主权项

1.一种用于设备的方法，所述设备用于制造或使用掩膜版或显示基板，所述方法包括：提供母版；设置测量点步骤：根据所述掩膜版或所述显示基板在母版上设置多个测量点，所述多个测量点对应于将对所述掩膜版或显示基板进行像素位置精度测量的位置；测量偏差值步骤：对母版进行位置精度检查，以在各个测量点处测量母版的实际测量值与母版的理论设计值之间的偏差值；测量误差值步骤：将母版置于所述设备的坐标系下，在各个测量点处测量所述设备与母版之间的误差值；和补偿步骤：分别结合在各个测量点处所述测量误差值步骤中测量出的误差值与所述测量偏差值步骤中测量出的偏差值，以确定出最终的补偿值，从而对所述设备在各个测量点处的误差进行补偿。