[发明专利]一种压电双极型晶体管有效

专利信息
申请号: 201610853624.7 申请日: 2016-09-27
公开(公告)号: CN106328802B 公开(公告)日: 2019-02-12
发明(设计)人: 张岩;赵子铭 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L41/113 分类号: H01L41/113;H01L29/73;H01L29/20;H01L29/22;H01L29/24;H01L29/36
代理公司: 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 代理人: 李蕊
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种压电双极型晶体管,其包括依次设置在半导体基板上的为n型的发射区、为p型的基区和为n型的集电区;基区为压电半导体,发射区的掺杂浓度高于基区的掺杂浓度;基区与集电区之间形成有一npn结或pnp结;该压电双极型晶体管采用npn结或pnp结的结构,与现有技术中压电半导体pn结相比,能够在相同的应变下产生更大的电流增益,进而增大其信号的输出,从而大幅度提高应变传感灵敏度,可提高3到4个量级,或在同比灵敏度下大幅降低器件功耗,降低3‑4个量级;其基区为压电半导体,可通过向压电半导体施加外界应变力,在基区产生压电电荷,调控基区集电结多子空穴的浓度,增大晶体管的输出电流的变化,进而提高可控电流的灵敏度。
搜索关键词: 一种 压电 双极型 晶体管
【主权项】:
1.一种压电双极型晶体管,其特征在于:包括依次设置在半导体基板上的为n型的发射区、为p型的基区和为n型的集电区;所述基区为压电半导体,所述发射区的掺杂浓度高于所述基区的掺杂浓度;所述基区与集电区之间的形成有一pn结或np结。
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