[发明专利]具有有效且高效设计的背接触太阳能电池及相对应的图案化工艺在审
申请号: | 201610720331.1 | 申请日: | 2010-05-13 |
公开(公告)号: | CN106128943A | 公开(公告)日: | 2016-11-16 |
发明(设计)人: | 乌马·斯里尼瓦桑;赵新;亨利·希斯洛麦尔;尼拉杰·帕卡拉 | 申请(专利权)人: | 纳克公司 |
主分类号: | H01L21/225 | 分类号: | H01L21/225;H01L21/228;H01L21/268;H01L31/0224;H01L31/068 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 沈锦华 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及具有有效且高效设计的背接触太阳能电池及相对应的图案化工艺。单独或组合使用基于激光的工艺以有效地处理半导体的掺杂域和/或电流采集结构。举例来说,可使用激光束将掺杂剂从裸露的硅/锗表面驱入硅/锗半导体层中。已发现深触点可有效产生高效太阳能电池。可有效地图案化电介质层以在集电器与沿半导体表面的掺杂域之间提供所选触点。快速处理方法适于高效生产工艺。 | ||
搜索关键词: | 具有 有效 高效 设计 接触 太阳能电池 相对 图案 化工 | ||
【主权项】:
一种沿所选图案掺杂半导体的方法,所述方法包含:沿表面在多个所选位置处以脉冲方式输送能量束以在所述所选位置处将第一掺杂剂从掺杂剂源驱入半导体层中以形成第一掺杂域,其中所述掺杂剂源是以实质上覆盖所述半导体层的层形式来形成;移除所述第一掺杂剂源;沉积包含第二掺杂剂的第二掺杂剂源以实质上覆盖所述半导体层;及沿表面在多个所选位置处以脉冲方式输送能量束以在所述所选位置处将所述第二掺杂剂驱入半导体层中以形成第二掺杂域。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造