[发明专利]一种在硅钢表面激光制备梯度涂层的方法在审
申请号: | 201610710574.7 | 申请日: | 2016-08-24 |
公开(公告)号: | CN107779838A | 公开(公告)日: | 2018-03-09 |
发明(设计)人: | 迟述义 | 申请(专利权)人: | 迟述义 |
主分类号: | C23C16/24 | 分类号: | C23C16/24;C23C16/48;C23C16/56 |
代理公司: | 鞍山贝尔专利代理有限公司21223 | 代理人: | 李玲 |
地址: | 114001 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种在硅钢表面激光制备梯度涂层的方法,按以下步骤进行(1)将热轧无取向低硅钢表面清洗干净后,喷砂处理;(2)置于真空条件下,持续通入氩气和硅烷,在激光聚焦条件下,制备出沉积涂层;(3)置于真空条件下,加热至700~1100℃,保温2~6h。本发明的方法提高了渗硅效率,实现了快速渗硅;采用无氯硅源避免FeCl2的生成造成铁的损失并改善材料表面质量;对渗硅过程进行局部化约束来减少和避免尾气对原料气的稀释和污染。 | ||
搜索关键词: | 一种 硅钢 表面 激光 制备 梯度 涂层 方法 | ||
【主权项】:
一种在硅钢表面激光制备梯度涂层的方法,其特征在于按以下步骤进行:(1)将热轧无取向低硅钢表面清洗干净后,喷砂处理至表面粗糙度Ra=5~6μm;(2)将预处理后的热轧无取向低硅钢置于真空度≤10‑3MPa的条件下,持续通入氩气和硅烷,氩气的流量为450~480mL/min,硅烷的流量为4~6mL/min,保持系统压力为0.01~0.03MPa;然后在激光聚焦条件下,在热轧无取向低硅钢表面制备出沉积涂层,激光照射功率800~1000W,照射时间10~20min;上述的激光聚焦条件下,激光的离焦量为5~20mm,扫描速度100~500mm/min;所述的激光散焦条件中,激光的光斑直径为20~30mm;(3)沉积涂层制备完成后将热轧无取向低硅钢置于真空度小于等于10‑3MPa的条件下,加热至700~1100℃,保温2~6h,在热轧无取向低硅钢表面制备出梯度涂层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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