[发明专利]一种内齿圈及构成该内齿圈的单元齿有效
申请号: | 201610703769.9 | 申请日: | 2016-08-22 |
公开(公告)号: | CN106122446B | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 邓炜;黄伟光;刘静;郑瑜华 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海高等研究院;四川渝源电器有限公司 |
主分类号: | F16H55/17 | 分类号: | F16H55/17;F16H55/12;F16H55/06;F16H55/08 |
代理公司: | 上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙) 31251 | 代理人: | 刘红梅 |
地址: | 201210 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种内齿圈及构成该内齿圈的单元齿,该内齿圈由多个单元齿拼接构成;每个所述单元齿包括顶面和齿尖面,以及连接所述顶面和所述齿尖面的两相对的接触面;所述两相对的接触面分别为第一接触面和第二接触面,相邻所述单元齿的所述第一接触面与所述第二接触面互相吻合,且使得每个所述单元齿的所述顶面连接构成所述内齿圈的外侧面。该单元齿为构成前述内齿圈的单元齿。本发明能够降低加工成本,还能够降低加工处理难度,有效地提高零件的互换性,且较容易地在齿面上实施耐磨措施。 | ||
搜索关键词: | 一种 内齿圈 构成 单元 | ||
【主权项】:
1.一种内齿圈,其特征在于,包括:所述内齿圈由多个单元齿拼接构成;每个所述单元齿包括顶面和齿尖面,以及连接所述顶面和所述齿尖面的两相对的接触面;所述两相对的接触面分别为第一接触面和第二接触面,相邻所述单元齿的所述第一接触面与所述第二接触面互相吻合,且使得每个所述单元齿的所述顶面连接构成所述内齿圈的外侧面;所述第一接触面和所述第二接触面均由多个平面拼接构成的组合面;所述第一接触面包括第一平面和第二平面,所述第一平面和所述第二平面拼接构成第一夹角;所述第二接触面包括第三平面和第四平面,所述第三平面和所述第四平面拼接构成第二夹角。
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