[发明专利]增亮膜以及背光模组在审
| 申请号： | 201610696291.1 | 申请日： | 2016-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN106094076A | 公开（公告）日： | 2016-11-09 |
| 发明（设计）人： | 杨勇 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/04 | 分类号： | G02B5/04;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰;黄进 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种增亮膜，包括基材本体，所述基材本体包括相对的入光面和出光面，所述基材本体的出光面设置有棱镜结构，其中，所述基材本体的入光面设置有纳米锥结构，所述纳米锥结构包括具有纳米尺寸的多个纳米锥，所述多个纳米锥中包括多种高宽比的纳米锥，多种高宽比的纳米锥在所述基材本体的入光面上随机排布；其中，所述纳米锥的高是指所述纳米锥从所述基材本体的入光面上凸起的高度，所述纳米锥的宽是指所述纳米锥与所述基材本体的入光面连接部分的最大宽度。本发明还公开了包含如上所述增亮膜的背光模组。本发明提供的增亮膜应用在显示装置中，可以避免显示画面出现摩尔纹现象，提高显示品质。 | ||
| 搜索关键词： | 增亮膜 以及 背光 模组 | ||
【主权项】：
一种增亮膜，包括基材本体，所述基材本体包括相对的入光面和出光面，所述基材本体的出光面设置有棱镜结构，其特征在于，所述基材本体的入光面设置有纳米锥结构，所述纳米锥结构包括具有纳米尺寸的多个纳米锥，所述多个纳米锥中包括多种高宽比的纳米锥，多种高宽比的纳米锥在所述基材本体的入光面上随机排布；其中，所述纳米锥的高是指所述纳米锥从所述基材本体的入光面上凸起的高度，所述纳米锥的宽是指所述纳米锥与所述基材本体的入光面连接部分的最大宽度。
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