[发明专利]腐蚀性阴离子去除装置及阴离子交换树脂的再生方法在审

专利信息
申请号: 201610653816.3 申请日: 2016-08-10
公开(公告)号: CN107349972A 公开(公告)日: 2017-11-17
发明(设计)人: 松川安树;津波古敦信 申请(专利权)人: 新菱冷热工业株式会社
主分类号: B01J47/14 分类号: B01J47/14;B01J49/60;C02F1/42
代理公司: 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙)11017 代理人: 韩登营
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种易于处理并可以切实防止腐蚀的腐蚀性阴离子去除装置及阴离子交换树脂的再生方法。本发明的腐蚀性阴离子去除装置(10)中,具有阴离子交换树脂(12),其将供给到配管(11)内的水中含有的腐蚀性阴离子置换为防腐蚀性阴离子,生成阴离子交换处理水,其具备有再生管路(17),其在阴离子交换树脂(12)再生时,只使用由自来水稀释的NaHCO3水溶液与该阴离子交换树脂(12)相接触。
搜索关键词: 腐蚀性 阴离子 去除 装置 交换 树脂 再生 方法
【主权项】:
一种腐蚀性阴离子去除装置,具有阴离子交换树脂,其将供给到配管内的水中含有的腐蚀性阴离子置换为防腐蚀性阴离子而生成阴离子交换处理水,其特征在于,具有再生管路,其在上述阴离子交换树脂再生时,只使由自来水稀释得到的NaHCO3水溶液与该阴离子交换树脂接触。
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