[发明专利]并行卷对卷真空镀膜系统及真空镀膜方法有效

专利信息
申请号: 201610603943.2 申请日: 2016-07-28
公开(公告)号: CN106048562B 公开(公告)日: 2018-08-28
发明(设计)人: 傅广生;刘海旭;于威;杨彦斌;李云;路万兵;王春生 申请(专利权)人: 河北大学
主分类号: C23C16/54 分类号: C23C16/54;C23C16/505
代理公司: 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人: 胡澎
地址: 071002 河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明涉及一种并行卷对卷真空镀膜系统及真空镀膜方法。本发明真空镀膜系统包括一个中央传输室、连接并分布在中央传输室周边的一个样品进出室和若干薄膜沉积反应室,在所述中央传输室与所述样品进出室和与所述薄膜沉积反应室的连接处分别设有真空阀门,以控制中央传输室与样品进出室以及控制中央传输室与薄膜沉积反应室之间的通道启闭;在薄膜沉积反应室中设置有等离子体反应气盒和收/放卷装置。本发明具有结构紧凑、生产效率高、工艺条件设定灵活等特点,可在同一工艺腔室中集成多个卷对卷反应装置,且能消除互相之间等离子体反应的干扰,从而实现在多个柔性料卷上的并行薄膜蒸镀。
搜索关键词: 并行 真空镀膜 系统 方法
【主权项】:
1.一种并行卷对卷真空镀膜系统,其特征是,包括一个中央传输室、连接并分布在中央传输室周边的一个样品进出室和若干薄膜沉积反应室,在所述中央传输室与所述样品进出室和与所述薄膜沉积反应室的连接处分别设有真空阀门,以控制中央传输室与样品进出室以及控制中央传输室与薄膜沉积反应室之间的通道启闭;在薄膜沉积反应室中设置有等离子体反应气盒和收/放卷装置,在所述样品进出室内设置有加热烘烤装置;所述收/放卷装置设置在平置的滑动导轨上,所述等离子体反应气盒位于所述收/放卷装置的上方,并通过提升架与真空反应室上部的提升机构相连接;所述等离子体反应气盒与所述收/放卷装置之间的间隙构成等离子体辉光放电区;在所述薄膜沉积反应室的侧壁上设置有用于连通中央传输室的样品进出口;所述等离子体反应气盒的主体为匀气盒,在匀气盒上设置有进气管口,在匀气盒的顶面分布有加热丝,加热丝用于对匀气盒进行加热;匀气盒的底板为分布有出气孔的出气孔板,在匀气盒上还设置有连接射频电源的射频馈线;在匀气盒的外侧面设置有封闭等离子体辉光放电区的屏蔽罩,在匀气盒的外侧面与屏蔽罩的内侧壁之间留有狭缝,在狭缝上部的匀气盒顶板上开有与狭缝相通的抽气孔,在匀气盒的顶面边缘设置有抽气盒,匀气盒顶板上的抽气孔与抽气盒相通,在抽气盒的侧壁上开有抽气管口。
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