[发明专利]一种双向耐高压的ESD保护器件结构有效
申请号: | 201610556495.5 | 申请日: | 2016-07-14 |
公开(公告)号: | CN106024779B | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 李博;高国平;罗静;王栋;周晓彬 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第五十八研究所 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 总装工程兵科研一所专利服务中心 32002 | 代理人: | 杨立秋 |
地址: | 214035 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种双向耐高压的ESD保护器件结构,该ESD保护器件包括衬底,还包括闭合的NWELL环和一整块DNWELL,闭合的NWELL环底部与DNWELL相连,将衬底表面的部分区域隔离出来,形成独立区域;在独立区域上进行第一高浓度P型注入,形成三极管PNP的发射极;在闭合的NWELL环上进行第二高浓度P型注入,形成PN结;在衬底进行第三高浓度P型注入,形成三极管PNP的集电极。施加在该ESD保护器件两端的电压远高于工作电压并且所施加在两端的电压方向相互变化时,该ESD保护器件不会发生漏电现象,本发明解决了该漏电难题。 | ||
搜索关键词: | 一种 双向 高压 esd 保护 器件 结构 | ||
【主权项】:
1.一种双向耐高压的ESD保护器件结构,所述ESD保护器件包括衬底(4),其特征在于:还包括闭合的NWELL环(2)和一整块DNWELL(3),所述闭合的NWELL环(2)底部与所述DNWELL(3)相连,将所述衬底(4)表面的部分区域隔离出来,形成独立区域(8);在所述独立区域(8)上具有第一高浓度P型注入区(5),作为三极管PNP的发射极;在所述闭合的NWELL环(2)上具有第二高浓度P型注入区(6),作为PN结;在所述衬底(4)具有第三高浓度P型注入区(7),作为三极管PNP的集电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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