[发明专利]反应腔室

摘要

本发明提供一种反应腔室，包括传片口、基座、压环、内门和压环升降机构，其中，传片口设置在反应腔室的侧壁上，基座设置在反应腔室内，用以承载晶片；压环用于通过压住晶片将其固定在基座上。压环升降机构用于驱动压环上升至与基座相分离的第一位置或者下降至压住晶片的第二位置。内门与压环连接，且内门在压环位于第一位置时，不遮挡传片口；在压环位于第二位置时，遮挡传片口。本发明提供的反应腔室，其可以解决设备结构复杂、制造成本高、腔室泄漏风险高以及因副产物颗粒积累造成内门运动故障的问题。

主权项

1.一种反应腔室，包括传片口、基座和压环，所述传片口设置在所述反应腔室的侧壁上，所述基座设置在所述反应腔室内，用以承载晶片；所述压环用于通过压住所述晶片的边缘将其固定在所述基座上，其特征在于，还包括内门和压环升降机构，其中，/n所述压环升降机构用于驱动所述压环上升至与所述基座相分离的第一位置或者下降至压住所述晶片的第二位置；/n所述内门与所述压环连接，且所述内门在所述压环位于所述第一位置时，不遮挡所述传片口；在所述压环位于所述第二位置时，遮挡所述传片口。/n