[发明专利]一种高循环次数的形状记忆合金及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201610538496.7 | 申请日： | 2016-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN106048304B | 公开（公告）日： | 2018-04-06 |
| 发明（设计）人： | 杨卫国;朱浩 | 申请（专利权）人： | 江苏科技大学 |
| 主分类号： | C22C14/00 | 分类号： | C22C14/00;C22C30/02;C23C14/35;C23C14/14;C23C14/58 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 | 代理人： | 王艳 |
| 地址： | 212003*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高循环次数的形状记忆合金，该合金由钛、镍、铜元素构成。按原子百分比包括如下组分钛原子百分比含量为50‑60%、镍的原子百分比含量为30‑38%；铜的原子百分比含量为10‑14%。然后采用磁控溅射的方法制备薄膜合金，再经过热处理而成。该合金内包含纳米Ti2Cu与Ti2Ni相，循环寿命高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 循环 次数 形状 记忆 合金 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种高循环次数的形状记忆合金，其特征在于，该合金由钛、镍、铜元素构成，所述高循环次数的形状记忆合金按原子百分比包括如下组分：钛原子百分比含量为50‑60%、镍的原子百分比含量为30‑38%；铜的原子百分比含量为10‑14%，所述高循环次数的形状记忆合金的厚度为2‑50微米，所述高循环次数的形状记忆合金的显微结构中包含Ti2Cu与Ti2Ni相；所述高循环次数的形状记忆合金中的Ti2Cu与Ti2Ni相的尺寸小于500纳米，所述的高循环次数的形状记忆合金的制备方法，包括以下步骤：1）按照上述的合金材料制备靶材；2）采用磁控溅射制备薄膜状的形状记忆合金，抽真空至10‑3Pa以上，充入氩气，然后再抽真空至10‑3Pa，调整工作电压为500V，溅射占空比60‑70%，开始进行溅射沉积，控制厚度为2‑50微米得到薄膜状的形状记忆合金；3）对步骤2）得到的薄膜状的形状记忆合金进行退火热处理得到高循环次数的形状记忆合金。
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