[发明专利]集成电路及其具自我静电保护的输出缓冲器布局结构在审
申请号: | 201610512664.5 | 申请日: | 2016-07-01 |
公开(公告)号: | CN107564902A | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 林硕彦;林欣逸 | 申请(专利权)人: | 台湾类比科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人: | 梁挥,田景宜 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种集成电路及其具自我静电保护的输出缓冲器布局结构,该集成电路包含多个输出缓冲器,各该输出缓冲器包含有一标准金氧半(metal-oxide-semiconductor;MOS)元件区域及一静电防护增强型MOS元件区域;其中,在该静电防护增强型MOS元件区域中的各MOS元件,其源极杂质掺杂区距近其栅极区的一侧与该栅极区的相对一侧保持一间隙,使该MOS元件中源极区的串联杂散电阻提高,让静电电流自MOS元件更底层的路径宣泄,以加强其静电防护能力。 | ||
搜索关键词: | 集成电路 及其 自我 静电 保护 输出 缓冲器 布局 结构 | ||
【主权项】:
一种集成电路,包括一内部集成电路单元、多个输出接垫及多个具自我静电保护的输出缓冲器;其中该多个输出缓冲器分别连接至该多个输出接垫与该内部集成电路单元之间,且各该输出缓冲器的布局结构包含有:一标准金氧半元件区域,包含有多个第一MOS元件,各该第一MOS元件的栅极区共同连接至该内部集成电路;以及一静电防护增强型MOS元件区域,包含有多个第二MOS元件,各该第二MOS元件的栅极区共同连接至该内部集成电路;其中各该第二MOS元件源极区的杂质掺杂区近其多晶硅区的一侧与该多晶硅区的一相对侧之间保持一间隙。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的