[发明专利]一种γ射线检测的曝光曲线计算方法有效

专利信息
申请号: 201610507061.6 申请日: 2016-06-27
公开(公告)号: CN106125496B 公开(公告)日: 2018-10-30
发明(设计)人: 安发顺;陈涛 申请(专利权)人: 杭州杭锅工业锅炉有限公司
主分类号: G03B42/00 分类号: G03B42/00
代理公司: 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 代理人: 翁霁明
地址: 310004 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种γ射线检测的曝光曲线计算方法,所述曝光曲线计算方法是:(一)基础参数获得;利用相关的器材获取基础参数,具体获取基础参数的步骤是:a)采用较长时间t1和较短时间t2,焦距F0固定,暗室处理过程全部固定,拍摄阶梯试块,获得两张不同时间的底片,用黑度计测定获得透照厚度与对应黑度的两个时间曝光下的数据,绘制两张D‑T曲线图;b)选定一基准黑度值,从D‑T曲线图中查出对应于该黑度的透照厚度。得到较长时间t1和较短时间t2曝光量对应的透照厚度值T1、T2;(二)曝光曲线计算法理论推导,其中利用射线的衰减公式及互易律公式,经计算最终得到拍摄的底片的黑度为基准黑度值3.0时所需要的曝光时间t3
搜索关键词: 一种 射线 检测 曝光 曲线 计算方法
【主权项】:
1.一种γ射线检测的曝光曲线计算方法,其特征在于所述曝光曲线计算方法是:(一)基础参数获得;利用如下器材获取基础参数:所需制作曲线的γ射线发生器、装有胶片的暗袋若干、射线用阶梯试块1块、垫板1~3块、卷尺1把、黑度计1台;获取基础参数的步骤:a)采用较长时间t1和较短时间t2,焦距F0固定,暗室处理过程全部固定,拍摄阶梯试块,获得两张不同时间的底片,用黑度计测定获得透照厚度与对应黑度的两个时间曝光下的数据,绘制两张D‑T曲线图;b)选定一基准黑度,从D‑T曲线图中查出对应于该基准黑度的透照厚度,得到较长时间t1和较短时间t2曝光量对应的透照厚度T1、T2;(二)曝光曲线计算法理论推导;曝光曲线是基于射线的衰减公式及互易律公式绘制而成的,其中:c)衰减公式I=I0e^(‑μT)……………………④I……透过工件后的射线强度;I0……初始射线强度;μ……衰减系数;T……透照厚度;注:射线强度只与源活度有关;d)互易律公式E=t1=I2t2=I3t3=…………………………⑤由④式和⑤式得,I0t1e^(‑μT1')=I0t2e^(‑μT2)=I3t3e^(‑μT3)……⑥I3……实际检测时源强度;t3……实际检测时使用的曝光时间;T3……实际检测时射线的透照厚度;e)由⑥式得:μ=ln(t1/t2)/(T1‑T2)t3=I0t1e^(μ(T3‑T1))/I3  =I0t1e^(ln(t1/t2)(T3‑T1)/(T1‑T2))/I3  =I0t1(t1/t2)^((T3‑T1)/(T1‑T2))/I3;或t3=I0t2(t1/t2)^((T3‑T2)/(T1‑T2))/I3;γ射线源活度衰减服从实数规律:N=N0e^(‑λT);T……实际检测距制作曝光曲线时经过的时间;N0……制作曝光曲线时的原子核数目;N……实际检测时的原子核数目;λ……γ射线源衰变常数,为已知条件;I0/I3=N0/N=e^(λT);从而得t3=e^(λT)t1(t1/t2)^((T3‑T1)/(T1‑T2));或t3=e^(λT)t2(t1/t2)^((T3‑T2)/(T1‑T2));所述的曝光时间t3使用曝光因子公式Ψ=At/F2=A1t1/F12=A2t2/F22=……;进行修正计算,以便消除实际检测中实际使用的焦距F和制作曝光曲线时的焦距F0不一致带来的影响;修正后,t3=F2e^(λT)t1(t1/t2)^((T3‑T1)/(T1‑T2))/F02;或t3=F2e^(λT)t2(t1/t2)^((T3‑T2)/(T1‑T2))/F02。
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