[发明专利]一种偏磷酸镍微纳米材料及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201610506587.2 | 申请日： | 2016-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN106185859B | 公开（公告）日： | 2018-08-17 |
| 发明（设计）人： | 刘乔;杨为佑 | 申请（专利权）人： | 宁波工程学院 |
| 主分类号： | C01B25/44 | 分类号： | C01B25/44 |
| 代理公司： | 宁波市鄞州盛飞专利代理事务所(特殊普通合伙) 33243 | 代理人： | 张向飞 |
| 地址： | 315016 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种偏磷酸镍微纳米材料及其制备方法和应用。该微纳米材料呈纳米片阵列结构，纳米片片层厚度低于20nm。其通过以下制备方法制成：将可溶性镍盐和弱碱分子溶于溶剂，和碳布共同反应获得含镍前驱体/碳布复合物，然后将含镍前驱体/碳布复合物和磷酸化合物于惰性气氛中热处理得到偏磷酸镍微纳米材料。本发明基于结构复制思路，采用两步法分别达到微纳米结构的制备和偏磷酸镍晶相的生长，实现具有单一晶相的偏磷酸镍微纳米材料制备，实验操作简单、安全，可实现规模化生产和应用。所制备的偏磷酸镍微纳米材料具有显著的赝电容特性，放电电流为1A/g时，比电容大于2000F/g，在电化学储能方面具有良好的潜在应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磷酸 纳米 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种偏磷酸镍微纳米材料，其特征在于，所述微纳米材料呈纳米片阵列结构，纳米片片层厚度低于20nm；所述微纳米材料的制备方法包括将可溶性镍盐和弱碱分子溶于溶剂，和碳布共同反应获得含镍前驱体/碳布复合物，然后将含镍前驱体/碳布复合物和磷酸化合物于惰性气氛中热处理得到偏磷酸镍微纳米材料；所述碳布先进行酸化处理，酸化处理时间为1‑3h，然后经过洗涤、干燥；所述可溶性镍盐与磷酸化合物的摩尔比为1:(2～10)；所述热处理的温度为260‑400℃，时间≥0.5h。
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