[发明专利]一种杂质清除设备有效
申请号: | 201610487570.7 | 申请日: | 2016-06-28 |
公开(公告)号: | CN106011788B | 公开(公告)日: | 2018-09-07 |
发明(设计)人: | 邓胜福 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C14/56 |
代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 许志勇 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种杂质清除设备,包括清除管道和设于该清除管道一端的清除部件;清除管道包含内管和外管,且内管与外管之间具有空隙;清除部件包含喷头、及围绕在该喷头外侧的真空罩,且真空罩与喷头之间留有空隙;喷头与内管密封连接,内管中输送的清除气体从所述喷头中喷出,真空罩与外管密封连接,且真空罩与喷头之间的空隙,连通于内管和外管之间的空隙,以将清除气体吸除。内管输送清除气体,并从喷头中喷出,将使得沉积于基座上的particle被吹离基座表面,在外管道的吸除作用下,被吹离基座表面的particle将从真空罩与喷头之间的空隙处被外管道吸出,从而,有效地将真空腔室内基座上的particle吸除。 | ||
搜索关键词: | 一种 杂质 清除 设备 | ||
【主权项】:
1.一种杂质清除设备,其特征在于,所述杂质清除设备包括清除管道和设于该清除管道一端的清除部件;所述清除管道包含内管和外管,所述内管与外管之间具有空隙;所述清除部件包含喷头、及围绕在该喷头外侧的真空罩,所述真空罩与所述喷头之间留有空隙;所述真空罩用于在清除杂质时,扣接在附有杂质的基座上;所述喷头与所述内管密封连接,所述内管中输送的清除气体从所述喷头中喷出;所述真空罩与所述外管密封连接,所述真空罩与所述喷头之间的空隙,连通于所述内管和外管之间的空隙,以将所述清除气体吸除。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山国显光电有限公司,未经昆山国显光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610487570.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的