[发明专利]一种透射型低能量电子显微系统

摘要

本发明涉及一种透射型低能量电子显微系统，其包括：一真空腔体；一电子枪，用于发射的电子束；一衍射腔体；一成像装置；一样品支架，用于固定二维纳米材料样品，上述电子束可以从所述二维纳米材料样品透射之后形成进入所述衍射腔体内的透射电子束与衍射电子束，并在所述成像装置上成像；一芯柱；一抽真空装置；以及一控制电脑；其中，所述控制电脑还包括工作模式切换模块，所述工作模式切换模块可以实现大束斑的成像模式和小束斑的衍射模式之间切换；所述大束斑的成像模式为采用大于样品的电子束照射整个样品表面，并进行衍射成像；所述小束斑的衍射模式为采用小于样品的电子束照射样品的局部表面或扫描整个表面，并进行衍射成像。

主权项

一种透射型低能量电子显微系统，其包括：一真空腔体；一设置于该真空腔体内的电子枪，用于发射的电子束；一与该真空腔体连接的衍射腔体；一设置于该衍射腔体内的成像装置；一样品支架，用于固定二维纳米材料样品，上述电子束可以从所述二维纳米材料样品透射之后形成进入所述衍射腔体内的透射电子束与衍射电子束，并在所述成像装置上成像；一与该衍射腔体连接的芯柱；一与该真空腔体连接的抽真空装置；以及一控制电脑，用于控制整个系统工作和数据处理；其特征在于，所述控制电脑还包括工作模式切换模块，所述工作模式切换模块可以实现大束斑的成像模式和小束斑的衍射模式之间切换；所述大束斑的成像模式为采用大于样品的电子束照射整个样品表面，并进行衍射成像；所述小束斑的衍射模式为采用小于样品的电子束照射样品的局部表面或扫描整个表面，并进行衍射成像。