[发明专利]一种柔性铜网栅基透明导电薄膜

摘要

本发明涉及光学薄膜领域，涉及一种柔性铜网栅基透明导电薄膜。本发明的柔性铜网栅基透明导电薄膜包含柔性透明薄膜衬底；一个减反增透层；以及一个铜网栅导电层；且所述减反增透层被布置在所述柔性透明薄膜衬底和铜网栅导电层之间。所述减反增透层由至少一层低折射率薄膜层和一层高折射率薄膜层交替叠加组成，所述铜网栅导电层由菱形或方形或六边形的铜线条和至少一层氧化铜薄膜层构成。本发明可以作为ITO导电薄膜的替代品，被广泛应用于触摸屏、柔性显示、电磁屏蔽等领域，相比传统的ITO导电薄膜，其生产成本更低，透过率更高，耐氧化性能更好，并且表面方阻至少高1个数量级，尤其适于大面积、高分辨率触摸屏的制备。

主权项

一种柔性铜网栅基透明导电薄膜，其特征是，导电薄膜包含：柔性透明衬底、减反增透层和铜网栅导电层；所述减反增透层被布置在所述柔性透明衬底和铜网栅导电层之间，其中柔性透明衬底包含：聚对苯二甲酸乙二醇酯和双面加硬透明涂层，其中，双面加硬透明涂层为紫外固化的聚丙烯酸酯涂层；减反增透层包含：低折射率薄膜层和高折射率薄膜层；铜网栅导电层包含铜网栅层和铜氧化物层，所述铜网栅导电层中的铜网栅层由菱形或方形或六方形的铜线条组成，线条的线宽为2～10微米，金属化率为1.25～2％；所述低折射率薄膜层和高折射率薄膜层交替堆叠，低折射率薄膜层和高折射率薄膜层的层数均为任意层，低折射率薄膜层数多于或等于高折射率薄膜层数；所述铜网栅导电层中的铜氧化物层布置在铜网栅层上表面或铜网栅层的上、下表面；所述铜网栅导电层中铜氧化物层的厚度为20～60nm；制造柔性铜网栅基透明导电薄膜的方法包括：在聚对苯二甲酸乙二醇酯的双面涂覆加硬透明涂层形成柔性透明衬底；在柔性透明衬底表面溅镀减反增透层；以及在减反增透层表面溅镀铜网栅导电层。