[发明专利]一种柔性铜网栅基透明导电薄膜有效
| 申请号： | 201610362592.0 | 申请日： | 2016-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN105845203B | 公开（公告）日： | 2017-11-21 |
| 发明（设计）人： | 刘宏燕;颜悦;望咏林;伍建华;张官理 | 申请（专利权）人： | 中国航空工业集团公司北京航空材料研究院 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14 |
| 代理公司： | 中国航空专利中心11008 | 代理人： | 李建英 |
| 地址： | 100095*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 柔性 铜网栅基 透明 导电 薄膜 | ||
1.一种柔性铜网栅基透明导电薄膜，其特征是，导电薄膜包含：柔性透明衬底、减反增透层和铜网栅导电层；所述减反增透层被布置在所述柔性透明衬底和铜网栅导电层之间，其中柔性透明衬底包含：聚对苯二甲酸乙二醇酯和双面加硬透明涂层，其中，双面加硬透明涂层为紫外固化的聚丙烯酸酯涂层；减反增透层包含：低折射率薄膜层和高折射率薄膜层；铜网栅导电层包含铜网栅层和铜氧化物层，所述铜网栅导电层中的铜网栅层由菱形或方形或六方形的铜线条组成，线条的线宽为2～10微米，金属化率为1.25～2％；所述低折射率薄膜层和高折射率薄膜层交替堆叠，低折射率薄膜层和高折射率薄膜层的层数均为任意层，低折射率薄膜层数多于或等于高折射率薄膜层数；所述铜网栅导电层中的铜氧化物层布置在铜网栅层上表面或铜网栅层的上、下表面；所述铜网栅导电层中铜氧化物层的厚度为20～60nm；制造柔性铜网栅基透明导电薄膜的方法包括：在聚对苯二甲酸乙二醇酯的双面涂覆加硬透明涂层形成柔性透明衬底；在柔性透明衬底表面溅镀减反增透层；以及在减反增透层表面溅镀铜网栅导电层。
2.根据权利要求1所述的一种柔性铜网栅基透明导电薄膜，其特征是，所述减反增透层中的低折射率薄膜层为二氧化硅或氟化镁。
3.根据权利要求1所述的一种柔性铜网栅基透明导电薄膜，其特征是，所述减反增透层中的高折射率薄膜层为五氧化二铌或二氧化钛。
4.根据权利要求1所述的一种柔性铜网栅基透明导电薄膜，其特征是，所述低折射率薄膜层和高折射率薄膜层的厚度分别为30～110nm和10～140nm。
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