[发明专利]光取向用偏振光照射方法

摘要

提供一种光取向用偏振光照射方法，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。

主权项

一种光取向用偏振光照射方法，使用光取向用偏振光照射装置向基板照射光取向用的偏振光，所述光取向用偏振光照射装置具备：照射单元，向所设定的照射区域照射偏振光；台，载置基板；以及台移动机构，通过使台向照射区域移动，使得向台上的基板照射偏振光，作为台，设置有第一台和第二台这两个台，在所述第一台和第二台的各台上设置有基板校准器，该基板校准器将所搭载的基板的朝向相对于被照射的偏振光的偏振轴调整为规定的朝向，台移动机构使第一台从设定于照射区域的一侧的第一基板搭载位置向照射区域移动，并经过由所述照射单元照射偏振光的该照射区域，并且使第二台从设定于照射区域的另一侧的第二基板搭载位置向照射区域移动，并经过由所述照射单元照射偏振光的该照射区域，台移动机构在第一台上的基板经过照射区域之后使第一台返回到第一侧，并且在第二台上的基板经过照射区域之后使第二台返回到第二侧，在位于第一基板搭载位置的第一台与照射区域之间确保通过所述基板校准器对第二台上所搭载的基板的朝向进行了调整后的该第二台上的基板经过照射区域的量以上的空间，在位于第二基板搭载位置的第二台与照射区域之间确保通过所述基板校准器对第一台上所搭载的基板的朝向进行了调整后的该第一台上的基板经过照射区域的量以上的空间，所述光取向用偏振光照射方法的特征在于，具有：第一基板搭载步骤，在所述第一基板搭载位置处，在所述第一台上搭载基板；第二基板搭载步骤，在所述第二基板搭载位置处，在所述第二台上搭载基板；第一移动步骤，使搭载了基板的所述第一台从所述第一基板搭载位置移动，在基板经过所述照射区域之后，使所述第一台返回到设定于所述一侧的第一基板回收位置；第二移动步骤，使搭载了基板的所述第二台从所述第二基板搭载位置移动，在基板经过所述照射区域之后，使所述第二台返回到设定于所述另一侧的第二基板回收位置；第一基板回收步骤，在第一基板回收位置处从所述第一台回收基板；以及第二基板回收步骤，在第二基板回收位置处从所述第二台回收基板，进行第一基板回收步骤和第一基板搭载步骤的时间段与进行第二移动步骤的时间段全部或一部分重叠，进行第二基板回收步骤和第二基板搭载步骤的时间段与进行第一移动步骤的时间段全部或一部分重叠。