[发明专利]使用收缩和生长来减小极紫外敏感度的方法有效
| 申请号： | 201610320265.9 | 申请日： | 2016-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN106154767B | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 利奥尔·胡利;尼哈尔·莫汉蒂 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 唐京桥;李春晖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种使用收缩和生长来减小极紫外敏感度的方法。该方法用于对基板进行图案化，该方法包括：在基板上形成辐射敏感材料的层；使用光刻工艺在辐射敏感材料的层中制备图案，该图案的特征在于临界尺寸(CD)和粗糙度；在制备图案之后，执行CD收缩工艺以将CD减小至减小的CD；以及执行生长工艺以将减小的CD生长至目标CD。粗糙度包括线边缘粗糙度(LER)、线宽粗糙度(LWR)或LER和LWR两者。执行CD收缩工艺可以包括：用硬掩模来涂覆图案，该涂覆生成硬掩模涂覆的抗蚀剂；在温度范围内烘焙该硬掩模涂覆的抗蚀剂一段时间，该烘焙生成烘焙的经涂覆的抗蚀剂；以及在去离子水中对该烘焙的经涂覆的抗蚀剂进行显影。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 收缩 生长 减小 紫外 敏感度 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在产出以每小时的基板计的图案化系统中对基板进行图案化的方法，所述方法包括：在基板上形成辐射敏感材料的层；使用极紫外EUV光刻工艺在所述辐射敏感材料的层中制备图案，所述图案的特征在于临界尺寸CD和粗糙度；在制备所述图案之后，执行CD收缩工艺以将所述CD减小至减小的CD；以及在执行所述CD收缩工艺之后，执行生长工艺以将所述减小的CD生长至目标CD，其中，所述产出是每小时50个基板或更多，同时控制所述基板的线宽粗糙度LWR和线边缘粗糙度LER。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610320265.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于打孔的雷钻膜复合柔性电路板基板的元件
- 下一篇：一种新式液压打捞筒
