[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置有效
申请号: | 201610320018.9 | 申请日: | 2016-05-13 |
公开(公告)号: | CN105845710B | 公开(公告)日: | 2019-01-18 |
发明(设计)人: | 王德志 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L23/544 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种显示基板及其制备方法、显示装置,属于显示技术领域。本发明的显示基板的制备方法,包括:通过构图工艺,在基底上形成包括位于中间区域的第一膜层和位于周边区域的辅助对位标记的图形;通过所述辅助对位标记进行对位,并通过构图工艺在所述基底的中间区域形成包括第二膜层的图形。在本发明的显示基板的制备方法中,由于在形成第二膜层时需要采用辅助对位标记进行对位,也就是说,在形成第二膜层时需要两次对位。因此,本发明的制备方法所形成的图案较为精准,故可以制备出良率较高的产品。 | ||
搜索关键词: | 显示 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括:将第一掩模板上位于四角位置的对位标记,与基底上位于四角位置的对位标记进行第一次对位,并通过蒸镀工艺,在基底上形成包括位于中间区域的第一膜层和位于周边区域的辅助对位标记的图形;通过所述辅助对位标记进行对位,并通过构图工艺在所述基底的中间区域形成包括第二膜层的图形。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的