[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃制造工艺在审
| 申请号： | 201610318256.6 | 申请日： | 2016-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN106007397A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 李锦亮 | 申请（专利权）人： | 东莞泰升玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34;C03B18/02;B24B9/10;C03B27/012 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人： | 肖平安 |
| 地址： | 523997*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低辐射镀膜玻璃制造工艺，其步骤为：(1)制备低辐射玻璃膜层：在浮法玻璃生产线的锡槽内的第一镀膜区，以硅类物质为主反应气体，利用化学气相沉积镀膜技术在玻璃表面上，形成以SiOxCy为主体的中间膜层；(2)镀玻璃膜层：在浮法玻璃生产线退火窑A0区内的第二镀膜区，以金属有机物化学气相沉积技术，将以有机锡化合物为主前质体的镀膜原料经气化流程的处理，以气体形式随主气流通过位于玻璃带上方的镀膜反应器引入到移动的热玻璃表面；在有氧源存在的条件下，在玻璃表面沉积的低辐射膜层；(3)切割：切去玻璃边缘的膜层；(4)磨边；(5)清洗：对待洗玻璃原片通过喷水管喷水浸润；(6)钢化：在700‑740℃的温度下，保持20‑30分钟。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 镀膜 玻璃 制造 工艺 | ||
【主权项】：
一种低辐射镀膜玻璃制造工艺，其特征在于，包括如下步骤：(1)制备低辐射玻璃膜层：在浮法玻璃生产线的锡槽内的第一镀膜区，以硅类物质为主反应气体，利用化学气相沉积镀膜技术在玻璃表面上，形成以SiOxCy为主体的中间膜层；(2)镀玻璃膜层：在浮法玻璃生产线退火窑A0区内的第二镀膜区，以金属有机物化学气相沉积技术，将以有机锡化合物为主前质体的镀膜原料经气化流程的处理，以气体形式随主气流通过位于玻璃带上方的镀膜反应器引入到移动的热玻璃表面；在有氧源存在的条件下，利用烷氧基的热解作用，在玻璃表面沉积的低辐射膜层；(3)切割：切去玻璃边缘的膜层；(4)磨边；(5)清洗：对待洗玻璃原片通过喷水管喷水浸润；回收并过滤用于浸润玻璃原片后的污水；(6)钢化：在700‑740℃的温度下，保持20‑30分钟。
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