[发明专利]一种涂布系统

摘要

本发明提供一种涂布系统，其包括真空室和涂布组件。所述涂布系统具有涂布组件，其包括气相源，基片保持器，其用于保持待涂布的基片从而使得所述基片被安置于所述气相源的前方，主阴极真空电弧组件，电耦合到所述阴极靶的远程阳极，所述阴极靶和主阳极之间的主电源，和连接在所述阴极靶和所述远程阳极之间的次电源。所述主阴极真空电弧组件包括阴极室组件，阴极靶，可选主阳极和屏蔽，该屏蔽把所述阴极靶与所述真空室隔离开。所述屏蔽定义用于把电子发射电流或金属气相等离子体从所述阴极靶传输到所述真空室的开口。所述气相源被安置在所述阴极室组件和所述远程阳极之间。

主权项

一种涂布系统，其特征在于，所述涂布系统包括：真空室；和安置于所述真空室内的涂布组件，所述涂布组件包括：气相源；基片保持器，所述基片保持器用于保持待涂布的基片从而使得所述基片安置于所述气相源的前方；主阴极真空电弧组件，其包括阴极室组件、阴极靶、可选主阳极和屏蔽，所述屏蔽把所述阴极靶与所述真空室隔离开，所述屏蔽定义了用于把电子发射电流或者金属气相等离子体从所述阴极靶传输到所述真空室的开口；远程阳极，其电耦合到所述阴极靶；主电源，其连接在所述阴极靶和所述主阳极之间；和次电源，其连接所述阴极靶和所述远程阳极之间，所述气相源被安置在所述阴极室组件和所述远程阳极之间，所述远程阳极具有线性远程阳极尺寸，所述气相源具有线性气相源尺寸，所述阴极靶具有线性阴极靶尺寸，以及所述基片保持器具有线性保持器尺寸从而使得所述线性远程阳极尺寸、所述线性气相源尺寸和所述线性保持器尺寸彼此平行，所述线性远程阳极尺寸等于或大于所述线性气相源尺寸从而使得受限的等离子体从所述阴极靶流向所述远程阳极。