[发明专利]一种反溶剂稀释加晶种诱导法制备大颗粒圆滑ε-HNIW晶体的方法在审

专利信息
申请号: 201610292497.8 申请日: 2016-05-05
公开(公告)号: CN105924447A 公开(公告)日: 2016-09-07
发明(设计)人: 焦清介;黄阳飞;郭学永;崔超;任慧 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: C07D487/22 分类号: C07D487/22
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 杨立
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种反溶剂稀释加晶种诱导法制备大颗粒圆滑ε‑HNIW晶体的方法,包括:将HNIW完全溶解在结晶溶剂中,过滤,滤液待用;结晶釜先用结晶溶剂洗涤,再用反溶剂冲洗后,将反溶剂注入结晶釜中,调节结晶釜夹套内水温为0‑45℃,在搅拌速率50‑100转/分钟下保温5‑15min,再将搅拌速率调为400‑500转/分钟,加入HNIW晶种,再滴加滤液,晶体开始析出,待全部滴加完毕后,继续搅拌2‑4h,晶体完全析出后,过滤,得晶体和母液,晶体洗涤、干燥,得ε‑HNIW含量≥95.0%的HNIW晶体,母液蒸馏,收集蒸出的结晶溶剂,过滤馏分,得γ‑HNIW和反溶剂。本方法具有操作简单,反溶剂用量少且可回收,反应条件温和,安全可靠,绿色高效,并容易实现产业化等优点。
搜索关键词: 一种 溶剂 稀释 加晶种 诱导法 制备 颗粒 圆滑 hniw 晶体 方法
【主权项】:
1.一种反溶剂稀释加晶种诱导法制备大颗粒圆滑ε-HNIW晶体的方法,其特征在于,包括:1)将HNIW完全溶解在结晶溶剂中,使HNIW的浓度为0.27-0.40g/mL,过滤,滤液待用;2)结晶釜先用结晶溶剂洗涤,再用反溶剂冲洗后,将反溶剂注入结晶釜中,调节结晶釜夹套内水温为0-45℃,在搅拌速率50-100转/分钟下保温5-15min,再将搅拌速率调为400-500转/分钟,加入HNIW晶种,再滴加1)得到的滤液,晶体开始析出,待全部滴加完毕后,继续搅拌2-4h,上述两个反溶剂均为工业正辛烷、工业正庚烷、工业二氯甲烷、工业三氯甲烷、工业四氯化碳、甲苯、苯和工业石油醚中的一种或几种的混合物;其中,注入结晶釜中的反溶剂体积是1)所用结晶溶剂体积的1-2倍,所述HNIW晶种粒度为50-180μm,加入质量为1)所用HNIW质量的1%-30%,HNIW晶种的长短轴比为1-1.9;3)晶体完全析出后,过滤,得晶体和母液,晶体洗涤、干燥,得ε-HNIW含量≥95.0%的HNIW晶体,ε-HNIW的粒度分布为180-425μm,母液蒸馏,收集蒸出的结晶溶剂,过滤馏分,得γ-HNIW和反溶剂,反溶剂回收继续使用,γ-HNIW作为原料投料使用。
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