[发明专利]一种碳硅异质结太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610286852.0 申请日: 2016-05-03
公开(公告)号: CN105957910A 公开(公告)日: 2016-09-21
发明(设计)人: 邢宇鹏;丁穷;杨正春;张楷亮;赵金石 申请(专利权)人: 天津理工大学
主分类号: H01L31/0376 分类号: H01L31/0376;H01L31/075;H01L31/20
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人: 刘书元
地址: 300384 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种碳硅异质结太阳能电池及其制备方法,该电池包括:硅衬底;钝化层,其制作在硅衬底下表面,覆盖硅衬底,为周期性开孔结构;第一电极,其制作在钝化层下表面,覆盖钝化层,通过钝化层的周期性开孔与硅衬底形成周期性接触;第一非晶碳薄膜层,其制作在硅衬底上表面,覆盖硅衬底;第二非晶碳薄膜层,其制作在第一非晶碳薄膜层上表面,覆盖第一非晶碳薄膜层;第二电极,其制作在第二非晶碳薄膜层上表面,宽度小于第二非晶碳薄膜层。与传统晶体硅电池相比,该电池可以更加有效的利用太阳光谱,该电池既可以独立使用,也可以与目前的晶体硅电池组成机械叠层结构,从而提高晶体硅电池的效率,降低成本。
搜索关键词: 一种 碳硅异质结 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种碳硅异质结太阳能电池,其特征是,包括:硅衬底;钝化层,其制作在硅衬底下表面,覆盖硅衬底,为周期性开孔结构;第一电极,其制作在钝化层下表面,覆盖钝化层,通过钝化层的周期性开孔与硅衬底形成周期性接触;第一非晶碳薄膜层,其制作在硅衬底上表面,覆盖硅衬底;第二非晶碳薄膜层,其制作在第一非晶碳薄膜层上表面,覆盖第一非晶碳薄膜层;第二电极,其制作在第二非晶碳薄膜层上表面,宽度小于第二非晶碳薄膜层。
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