[发明专利]一种在Cu薄膜体系中生成Cu三角晶体的方法有效
申请号: | 201610225663.2 | 申请日: | 2016-04-12 |
公开(公告)号: | CN105862007B | 公开(公告)日: | 2018-08-10 |
发明(设计)人: | 林启敬;蒋庄德;王琛英;杨树明;赵娜;伍子荣 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | C23C14/58 | 分类号: | C23C14/58;C23C14/14 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 陆万寿 |
地址: | 710049 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种在Cu薄膜体系中生成Cu三角晶体的方法,首先在具有<111>晶向的基底上沉积Cu薄膜;随后在Cu薄膜上沉积一层还原性较强的其他材料的薄膜,用以防止Cu薄膜在高温下被氧化;然后采用热处理设备在惰性气体氛围内对样品进行退火,退火温度大于500℃,保温一定时间后,随炉冷却,得到Cu三角晶体。所得到的Cu三角晶体表面,成正等边三角形。 | ||
搜索关键词: | 一种 cu 薄膜 体系 生成 三角 晶体 方法 | ||
【主权项】:
1.一种在Cu薄膜体系中生成Cu三角晶体的方法,其特征在于:包括以下步骤:制备Cu薄膜体系:在具有<111>晶向的基底上依次沉积Cu薄膜和具有较强还原性且不与Cu发生化学反应的其他材料薄膜,制备Cu薄膜体系;退火:采用热处理设备在惰性气体氛围内对Cu薄膜体系进行退火,退火温度大于500℃,退火温度的上限以不融化样品为准,退火后随炉冷却至室温,得到Cu三角晶体;所述退火的保温时间为不小于2分钟,所述的具有较强还原性且不与Cu发生化学反应的材料是Mg、Al、Zn、Fe、Sn、Ti。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学,未经西安交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610225663.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种薄膜太阳能光电幕墙
- 下一篇:一种梁墙复合构件
- 同类专利
- 专利分类