[发明专利]针对版图设计数据改版的光刻工艺的友善性检查方法有效
| 申请号： | 201610173339.0 | 申请日： | 2016-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN105653828B | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 朱忠华;王伟斌;魏芳;朱骏;吕煜坤;张旭升 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;G03F1/84;G03F1/72 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种针对版图设计数据改版的光刻工艺的友善性检查方法，包括：准备版图设计数据；执行版图设计数据的光刻友善性检查，此时判断版图设计数据是否定案；如果定案则处理结束，如果未定案则进行部分版图设计数据改版；在部分版图设计数据改版之后进行版图改版前后数据比对，以得到改版前后差异区域，随后将改版前后差异区域进行放大处理，在将改版前后差异区域进行放大处理之后针对改版前后差异区域再次执行版图设计数据的光刻友善性检查。 | ||
| 搜索关键词： | 针对 版图 设计 数据 改版 光刻 工艺 友善 检查 方法 | ||
【主权项】：
1.一种针对版图设计数据改版的光刻工艺的友善性检查方法，其特征在于包括：准备版图设计数据；执行版图设计数据的光刻友善性检查，此时判断版图设计数据是否定案；如果定案则处理结束，如果未定案则进行部分版图设计数据改版；在部分版图设计数据改版之后进行版图改版前后数据比对，以得到改版前后差异区域，随后将改版前后差异区域进行扩大处理，在将改版前后差异区域进行扩大处理之后针对改版前后差异区域再次执行版图设计数据的光刻友善性检查。
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