[发明专利]一种用于输出单模激光的大模场增益光纤有效

专利信息
申请号: 201610167986.0 申请日: 2016-03-23
公开(公告)号: CN105652369B 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 黄良金;冷进勇;江天;姚天甫;潘志勇;曹涧秋;王小林;郭少锋;周朴;程湘爱;许晓军;陈金宝 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科学技术大学
主分类号: G02B6/036 分类号: G02B6/036
代理公司: 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 代理人: 赵洪
地址: 410073 湖南省长沙市开福区砚瓦*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种用于输出单模激光的大模场增益光纤,包括纤芯(1)、依次包覆在纤芯(1)上的沟壑层(2)、第一包层(3)和第二包层(4);所述第二包层(4)的折射率低于所述纤芯(1)的折射率;所述沟壑层(2)的折射率低于所述第二包层(4)的折射率。本发明具有高阶模抑制能力高、基模重叠因子大等优点;并且本发明的光纤折射率分布呈轴对称,具有光纤加工工艺成熟,加工难度小等优点。
搜索关键词: 一种 用于 输出 单模 激光 大模场 增益 光纤
【主权项】:
1.一种用于输出单模激光的大模场增益光纤,其特征在于:包括纤芯(1)、依次包覆在纤芯(1)上的沟壑层(2)、第一包层(3)和第二包层(4);所述第二包层(4)的折射率低于所述纤芯(1)的折射率;所述沟壑层(2)的折射率低于所述第二包层(4)的折射率;所述纤芯(1)的折射率与所述第二包层(4)的折射率之差大于等于0.001;所述第二包层(4)的折射率与所述沟壑层(2)的折射率之差大于等于0.0001;所述第二包层(4)的折射率为1.44至1.46。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军国防科学技术大学,未经中国人民解放军国防科学技术大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610167986.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top