[发明专利]火山岩中活性SiO2含量的测定方法在审
申请号: | 201610100459.8 | 申请日: | 2016-02-24 |
公开(公告)号: | CN105699406A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
发明(设计)人: | 喻乐华 | 申请(专利权)人: | 喻乐华 |
主分类号: | G01N23/20 | 分类号: | G01N23/20 |
代理公司: | 江西省专利事务所 36100 | 代理人: | 张静 |
地址: | 330013 江西省南昌*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种火山岩中活性SiO2含量的测定方法,包括以下步骤:由化学分析测定火山岩中全SiO2含量;用火山岩粉末X光衍射分析(XRD);在XRD图谱中选取石英(2θ=67°—69°)独立衍射峰的数据分析,计算衍射背景线以上的晶相面积与衍射峰线以下的全部物相面积之百分率即为SiO2晶相百分率;用差减法得到非晶相SiO2比例;利用公式活性SiO2含量=(全SiO2含量)*(非晶态SiO2比例),即得。本发明方法不受粉末颗粒细度等诸多外界因素的影响,只由材料内在要素成分和非晶质含量所决定,更加科学合理、精确、简捷、方便;适用于评判火山岩或其它火山灰质材料如矿渣等用作辅助胶凝材料的质量优劣。 | ||
搜索关键词: | 火山岩 活性 sio sub 含量 测定 方法 | ||
【主权项】:
一种火山岩中活性SiO2含量的测定方法,其特征在于:包括以下步骤:1.1由化学分析测定火山岩中全SiO2含量 ;1.2、用火山岩粉末X光衍射分析(XRD);1.3、在XRD图谱中选取石英(2θ=67°—69°)独立衍射峰的数据分析,计算衍射背景线以上的晶相面积与衍射峰线以下的全部物相面积之百分率即为SiO2晶相百分率;1.4、用差减法得到非晶相SiO2比例 ;1.5、计算活性SiO2含量:利用公式活性SiO2含量 =(全SiO2含量)*(非晶态SiO2比例),即得。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于喻乐华,未经喻乐华许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610100459.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于电子背散射衍射仪的样品台
- 下一篇:一种现场管道探伤装置
- 一种Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>复相热障涂层材料
- 无铅[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>纳米管及其制备方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一种Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 复合膜及其制备方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 荧光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一种(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制备方法
- 荧光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>复合材料的制备方法