[发明专利]一种均流装置及反应腔室

摘要

本发明提供一种均流装置，包括射频盖和喷淋盘，所述射频盖包括固定连接于一体的上下两部分，其上部为圆盘状的第一本体，其下部为环状的第一连接部，所述第一连接部的外径小于所述第一本体的直径，所述喷淋盘包括固定连接于一体的上下两部分，其上部为环形的第二连接部，其下部为圆盘状的第二本体，所述第二连接部的外径大于所述第二本体的直径，所述第一连接部与所述第二连接部分别在其各自的外侧壁上沿周向设置有相互配合的卡合部件，以使所述射频盖和所述喷淋盘固定连接。本发明所提供的均流装置，可以有效的解决漏气和变形导致的加工工艺不理想的问题，并具有良好的导电特性。

主权项

1.一种均流装置，包括射频盖和喷淋盘，所述射频盖包括固定连接于一体的上下两部分，其上部为圆盘状的第一本体，其下部为环状的第一连接部，所述第一连接部的外径小于所述第一本体的直径，所述喷淋盘包括固定连接于一体的上下两部分，其上部为环形的第二连接部，其下部为圆盘状的第二本体，所述第二连接部的外径大于所述第二本体的直径，其特征在于：所述第一连接部与所述第二连接部分别在其各自的外侧壁上沿周向设置有相互配合的卡合部件，以使所述射频盖和所述喷淋盘固定连接。