[发明专利]一种DPC工艺用镜面氮化铝陶瓷基板的高活性预处理方法

摘要

本发明公开了一种DPC工艺用镜面氮化铝陶瓷基板的高活性预处理方法，具体步骤为：一、配制活化溶液；二、镜面氮化铝陶瓷基板表面除油处理，在除油溶液中浸泡15～300min后，用纯水冲洗干净；三、镜面氮化铝陶瓷基板表面除蜡处理，在除蜡水中浸泡15～300min；四、镜面氮化铝陶瓷基板表面活化；五、用去离子水冲净镜面氮化铝基板表面，冷风吹干镜面氮化铝陶瓷基板上的水后，置于烘箱中烘烤30～180min，自然冷却后得到高活性的镜面氮化铝陶瓷基板。本发明有效降低了镜面氮化铝陶瓷基板DPC工艺中前处理时对镜面氮化铝表面的损伤，在氮化铝陶瓷基板表面形成一层超薄的高活性膜层，对金属元素具有强浸润作用和附着能力，特别适用于氮化铝材质的IC载板DPC工艺的使用。

主权项

1.一种DPC工艺用镜面氮化铝陶瓷基板的高活性预处理方法，其特征在于:它包括以下步骤：步骤一；活化溶液的配制；活化溶液由催化剂、缓释剂、活性盐和添加剂混合而成，其中催化剂包括双氧水、过硫酸钠的任一种或二者混合，催化剂包括双氧水、过硫酸钠的任一种或二者混合，缓释剂由乙二醇、甘油的任一种或二者混合，活性盐由硝酸钠、氟化铵和硝酸锰混合而成，添加剂为草酸、EDTA的任一种或二者混合，将选取的试剂按比例溶于去离子水中，30℃条件下搅拌，搅拌速度为200～2000转/分钟，30min～180min后过滤制得活化溶液；步骤二；镜面氮化铝基板除油清洗；将镜面氮化铝基板浸入除油溶液中，用超声清洗工艺清洗，去除镜面氮化铝基板表面的污垢，用去离子水冲净其表面；步骤三；镜面氮化铝基板除蜡清洗；将镜面氮化铝基板置于除蜡水中，超声工艺清洗，除去镜面氮化铝基板表面因抛光残留的蜡状抛光膏，用去离子水冲净其表面；步骤四；镜面氮化铝基板表面活化反应；将除油处理过的镜面氮化铝基板浸泡于活化溶液中，并辅以超声工艺，在催化剂的作用下，镜面氮化铝表面的Al元素和N元素发生化学反应，形成AlNM化学键(M＝H、Na、NH4、Mn)和OAlF化学键，使其表面形成高浸润、高活性的膜层；步骤五；镜面氮化铝基板的热处理；将已经形成高活性层的镜面氮化铝基板的表面用去离子水冲净，冷风吹干氮化铝基板表面，置于烘箱中烘烤，自然冷却后得到DPC工艺用的高活性氮化铝陶瓷基板。