[发明专利]一种高Seebeck系数的聚对苯二胺粉体及其制备有效
| 申请号： | 201610033622.3 | 申请日： | 2016-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN106977919B | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 蔡克峰;寇青 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | C08L79/02 | 分类号： | C08L79/02;C08K5/42;C08G73/02 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 林君如 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种高Seebeck系数的聚对苯二胺粉体及其制备方法，所述的聚对苯二胺粉体包括聚对苯二胺基体，以及掺加在聚对苯二胺基体中的用以提高Seebeck系数有机酸；聚对苯二胺粉体的制备方法包括以下步骤：(1)将对苯二胺单体加入溶剂中搅拌形成乳液，再加入有机酸和引发剂，持续搅拌反应，得到反应产物；(2)将反应产物洗涤烘干后，冷压成片，即得到目的产物。与现有技术相比，本发明具有Seebeck系数高、制备工艺简单易行、易于工业放大等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 seebeck 系数 苯二胺粉体 及其 制备 | ||
【主权项】：
1.一种高Seebeck系数的聚对苯二胺粉体，其特征在于，包括聚对苯二胺基体，以及掺加在聚对苯二胺基体中的用以提高Seebeck系数有机酸，所述的有机酸为磺基水杨酸、樟脑磺酸或对甲基苯磺酸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学，未经同济大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610033622.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种超韧尼龙材料
- 下一篇：耐高压绝缘材料及其制备方法
