[发明专利]使用空间上分开的注入器腔室进行的对膜的原子层沉积

摘要

一种沉积膜的方法，所述方法包含以下步骤：在具有多个处理区域的处理腔室中的基板支撑件上定位多个基板，通过气幕使每一个处理区域与相邻的区域分开。在处理区域中的至少一个处理区域中交替向第一反应性气体、净化气体、第二反应性气体和净化气体的暴露以沉积膜。

主权项

1.一种处理方法，所述方法包含以下步骤：在处理腔室中的基板支撑件上定位多个基板，所述处理腔室包含多个处理区域，通过气幕使每一个处理区域与相邻的区域分开；使第一反应性气体流入所述处理区域中的一个或多个处理区域中，同时使惰性气体流入不具有第一反应性气体流的任何处理区域中；旋转所述处理腔室内的基板支撑件上所述多个基板以使所述基板中的每一个基板穿过所述处理区域中的每一个处理区域至少一次；停止所述第一反应性气体进入所述处理区域的流动；使第二反应性气体流入所述处理区域中的一个或多个处理区域中，同时使惰性气体流入不具有第二反应性气体流的任何处理区域中；旋转所述处理腔室内的所述多个基板以使所述基板中的每一个基板穿过所述处理区域中的每一个处理区域至少一次；停止所述第二反应性气体进入所述处理区域的流动；以及相对于暴露于所述第二反应性气体期间的所述基板支撑件的旋转速度，改变在暴露于所述第一反应性气体期间的所述基板支撑件的旋转速度。