[发明专利]用于确定制造的光学器件的质量的系统和方法有效
| 申请号： | 201580072477.3 | 申请日： | 2015-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN107110740B | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | F·康拉德;拉维·钱德拉·巴卡拉朱;克劳斯·艾尔曼 | 申请（专利权）人： | 华柏恩视觉研究中心 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01N21/00 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 郑霞 |
| 地址： | 澳大利亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 用于评估制造的光学器件的功率分布和所制造的光学器件的功率分布所基于的标称功率分布之间的相似度的方法。该方法包括测量制造的光学器件的功率分布；从制造的光学器件的测量的功率分布中确认相关区域；以及对所测量的功率分布施加偏移量，以使统计量词实质上最小化，从而量化该标称功率分布和偏移的测量的功率分布之间的相似度。该方法进一步包括将该偏移量和该统计量词与预定的质量控制度量进行比较；至少部分地基于该比较来确定所测量的功率分布是否满足该预定的质量控制度量。在示例性实施方式中，该方法可以进一步包括：如果所测量的功率分布没有满足该预定的质量控制度量，则确定是否将所制造的光学器件与另一标称功率分布相关联。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 制造 光学 器件 质量 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于评估制造的光学器件、模具和/或空腔的功率分布和/或表面轮廓与所制造的光学器件、模具和/或空腔的该功率分布和/或该表面轮廓所基于的相应的标称功率分布和/或标称表面轮廓之间的相似度的方法，该方法包括：测量制造的光学器件、模具和/或空腔的功率分布和/或表面轮廓；从制造的光学器件、模具和/或空腔的所测量的功率分布和/或测量的表面轮廓中确认一个或多个相关区域；确定相对于所测量的功率分布和/或所测量的表面轮廓的至少一个偏移量(X和/或Y)，以使统计量词实质上最小化，该统计量词用于量化该相应的标称功率分布和/或表面轮廓和偏移的测量的功率分布之间的相似度；将该偏移量和该统计量词与预定的质量控制度量进行比较；以及至少部分地基于该比较来确定所测量的功率分布是否满足该预定的质量控制度量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华柏恩视觉研究中心，未经华柏恩视觉研究中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201580072477.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
