[发明专利]具备防反射膜的光学部件及其制造方法有效
申请号: | 201580044745.0 | 申请日: | 2015-07-27 |
公开(公告)号: | CN106574986B | 公开(公告)日: | 2019-02-22 |
发明(设计)人: | 吉弘达矢;园田慎一郎 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02B1/118 | 分类号: | G02B1/118;B32B7/02;B32B9/00;C23C14/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 葛凡 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种具备抑制散射光且具有充分的防反射特性的防反射膜的光学部件及其制造方法。本发明的光学部件(1)具备透明基材(2)及在透明基材(2)的表面上形成的防反射膜(3),所述光学部件中,防反射膜(3)包括:微细凹凸层(10),具有比应防反射的光的波长小的凸部间距离的凹凸结构且以氧化铝的水合物为主要成分;及中间层(5),配置于微细凹凸层(10)与透明基材(2)之间,微细凹凸层(10)的凹凸结构的空间频率的峰值大于6.5μm‑1,中间层(5)从透明基材(2)侧依次具备低折射率层(5L)及高折射率层(5H)而成,所述低折射率层(5L)具有比透明基材(2)的折射率低的折射率,所述高折射率层(5H)具有比透明基材(2)的折射率高的折射率。 | ||
搜索关键词: | 具备 反射 光学 部件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光学部件,其具备透明基材及在该透明基材的表面上形成的防反射膜,所述光学部件中,所述防反射膜包括:微细凹凸层,具有比应防反射的光的波长小的凸部间距离的凹凸结构且以氧化铝的水合物为主要成分;及中间层,配置于该微细凹凸层与所述透明基材之间,所述微细凹凸层的所述凹凸结构的空间频率的峰值大于6.5μm‑1,所述中间层是从所述透明基材侧依次将低折射率层及高折射率层交替地具备三层以上而成的,所述低折射率层具有比所述透明基材的折射率低的折射率,所述高折射率层具有比所述透明基材的折射率高的折射率,所述高折射率层和所述微细凹凸层之间具备覆盖层,所述覆盖层为低折射率层,所述低折射率层包括氧化硅或氮氧化硅,所述高折射率层包括硅氧化铌或氧化铌。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580044745.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。