[发明专利]测距装置以及该测距装置中使用的固体摄像元件有效

专利信息
申请号: 201580030264.4 申请日: 2015-01-29
公开(公告)号: CN106461763B 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: 高桥翔马;高野遥;金光朋彦 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: G01S7/497 分类号: G01S7/497;G01S17/10;G01S17/89;G01C3/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 安香子;黄剑锋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种动态地检测来自未知的TOF测距系统的干扰的测距装置。在测距装置(10)中,控制部(4)在规定期间中产生第1曝光信号~第3曝光信号,并且再次产生作为第1曝光信号~第3曝光信号中的1个的特定的曝光信号。受光部(2)在规定期间中进行第1曝光处理~第3曝光处理,并且再次进行第1曝光处理~第3曝光处理中的与特定的曝光信号对应的特定的曝光处理;运算部(3)基于规定期间中的通过第1次的特定的曝光处理得到的曝光量与通过第2次的特定的曝光处理得到的曝光量的差异,判断其他测距装置的光照射与本测距装置的光照射是否干扰。
搜索关键词: 测距 装置
【主权项】:
1.一种测距装置,使用飞行时间方式即TOF方式,其特征在于,具备:光源部,按照指示向对象物的光照射的发光信号,进行光照射;控制部,产生上述发光信号、同步于上述发光信号而指示来自上述对象物的反射光的曝光的第1曝光信号、同步于上述发光信号且以与上述第1曝光信号不同的定时指示来自上述对象物的反射光的曝光的第2曝光信号、以及指示上述反射光不存在的期间的背景光的曝光的第3曝光信号;受光部,进行依照上述第1曝光信号的第1曝光处理、依照上述第2曝光信号的第2曝光处理、以及依照上述第3曝光信号的第3曝光处理;以及运算部,计算上述第1曝光处理中的第1曝光量、上述第2曝光处理中的第2曝光量及上述第3曝光处理中的第3曝光量,使用上述第1曝光量、上述第2曝光量及上述第3曝光量通过上述TOF方式求出到上述对象物的距离;上述控制部按每规定期间产生上述第1曝光信号、上述第2曝光信号、上述第3曝光信号,并且再次产生作为上述第1曝光信号、上述第2曝光信号及第3曝光信号中的1个的特定的曝光信号;上述受光部在上述规定期间中进行上述第1曝光处理、上述第2曝光处理、上述第3曝光处理,并且再次进行上述第1曝光处理、上述第2曝光处理及上述第3曝光处理中的与上述特定的曝光信号对应的曝光处理即特定的曝光处理;上述运算部基于通过上述规定期间中的第1次的上述特定的曝光处理得到的曝光量与通过第2次的上述特定的曝光处理得到的曝光量的差异,判断其他测距装置的光照射与本测距装置的光照射是否干扰。
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