[发明专利]硬质覆膜、切削工具以及硬质覆膜的制造方法有效
申请号: | 201580014264.5 | 申请日: | 2015-09-30 |
公开(公告)号: | CN106103793B | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 阿侬萨克·帕索斯;出谷隆典 | 申请(专利权)人: | 住友电工硬质合金株式会社 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;B23B27/14;B23B51/00;B23C5/16;B23D77/00;B23F21/00;B23G5/06;C23C16/52 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 常海涛;高钊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明为一种硬质覆膜,其中:所述硬质覆膜包括两个第一结晶相以及配置于所述两个第一结晶相之间的第二结晶相;所述两个第一结晶相各自独立地包括Ti1–x1Alx1N相和Alx2Ti1–x2N相交替层叠的层叠结构,其中所述Ti1–x1Alx1N相具有氯化钠型晶体结构并且所述Alx2Ti1–x2N相具有氯化钠型晶体结构;所述Ti1–x1Alx1N相中的Al组成比x1满足关系式0.5≤x1≤0.75;所述Alx2Ti1–x2N相中的Al组成比x2满足关系式0.75 |
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搜索关键词: | 硬质 切削 工具 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种硬质覆膜,包括:两个第一结晶相;以及配置于所述两个第一结晶相之间的第二结晶相,其中所述两个第一结晶相各自独立地包括Ti1–x1Alx1N相和Alx2Ti1–x2N相交替层叠的层叠结构,其中所述Ti1–x1Alx1N相具有氯化钠型晶体结构并且所述Alx2Ti1–x2N相具有氯化钠型晶体结构,所述Ti1–x1Alx1N相中的Al组成比x1满足关系式0.5≤x1≤0.75,所述Alx2Ti1–x2N相中的Al组成比x2满足关系式0.75<x2≤0.95,所述层叠结构包括这样的区域,在该区域中,Al浓度沿着所述Ti1–x1Alx1N相和所述Alx2Ti1–x2N相的层叠方向周期性地变化,在所述区域中,所述Al组成比x2的最大值与所述Al组成比x1的最小值之差大于0.25,并且所述第二结晶相包含具有纤锌矿型晶体结构的AlN。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的