[发明专利]表面处理基材有效
| 申请号： | 201580014157.2 | 申请日： | 2015-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN106103802B | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 津田稔也;石原和彦;市岛真司 | 申请（专利权）人： | 东洋钢钣株式会社 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;B32B15/082;C09K3/18;C25D3/12;C25D5/48 |
| 代理公司： | 北京格罗巴尔知识产权代理事务所(普通合伙) 11406 | 代理人： | 白银环 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种表面处理基材(100)，其特征在于，在基材(10)的表面上从基材(10)一侧依次具有：以0.01～0.13重量％含有硫原子的镀镍层(20)、及由具有疏水基和亲水基的处理剂形成的处理皮膜(30)。本发明表面处理基材(100)的前述处理皮膜(30)的厚度优选为1～100nm。另外，本发明表面处理基材(100)的前述处理剂优选为具有氟碳链作为疏水基的化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 处理 基材 | ||
【主权项】：
1.一种表面处理基材，其特征在于，在基材的表面上从基材一侧依次具有：以0.01～0.13重量％含有硫原子的镀镍层、及由具有疏水基和亲水基的处理剂形成的处理皮膜，所述具有疏水基和亲水基的处理剂为具有任选含有卤素的脂肪族烃基作为所述疏水基，具有选自磷酸酯盐的基团、羧酸盐的基团、硫酸酯盐的基团、以及磺酸盐的基团中的基团作为所述亲水基的处理剂，对于所述镀镍层，通过X射线光电子能谱(ESCA)测定得到的、所述处理皮膜的最表层部分的在280～300eV能量范围所检测到的C1s峰的积分值相对于所述镀镍层的未检测到存在于能量范围525～540eV的O1s峰的深度(O1s未检测层)的在845～865eV能量范围所检测到的Ni2p3/2峰的积分值的比以“C1s峰的积分值/Ni2p3/2峰的积分值”的比计为4.3×10‑2～8.01×10‑2的范围。
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