[发明专利]用于大型基板的水平湿式化学处理的设备的处理模块及其处理方法和用途

摘要

本发明涉及一种用于对大型基板、特别地玻璃基板进行水平湿式化学处理的设备的处理模块，其包括：外壳，其带有外壳盖；传输装置，其包括用于水平处理大型基板的多个传输元件，其中处理模块进一步包括在处理模块的入口处布置在大型基板的传输高度上方的至少第一液体喷嘴和至少气体喷嘴，以及在处理模块的出口处布置在大型基板的传输高度上方的、用于累积处理模块内的处理液体的至少另一第一液体喷嘴和至少另一气体喷嘴，其中各气体喷嘴比相应的第一液体喷嘴更靠外地布置；至少液体堰，其在大型基板的传输高度下方布置在各第一液体喷嘴下方；其中处理模块进一步包括用于调整处理模块的传输装置和液体堰的至少一调整装置。本发明进一步涉及一种用于在尤其包括这种处理模块的水平设备中处理大型基板的方法。

主权项

1.一种用于对大型基板进行水平湿式化学处理的设备的处理模块(1)，所述处理模块(1)包括：外壳(2)，所述外壳(2)带有外壳盖(4)；传输装置，所述传输装置包括用于水平处理大型基板的多个传输元件(8)，其中所述处理模块(1)进一步包括在所述处理模块(1)的入口处布置在大型基板的传输高度(17)上方的至少第一液体喷嘴(11)和至少气体喷嘴(10)，以及在所述处理模块(1)的出口处布置在大型基板的传输高度(17)上方的、用于累积所述处理模块(1)内的处理液体的至少另一第一液体喷嘴(11)和至少另一气体喷嘴(10)，其中各气体喷嘴(10)比相应的第一液体喷嘴(11)更靠外地布置；至少液体堰(13)，所述至少液体堰(13)在大型基板的所述传输高度(17)下方布置在各第一液体喷嘴(11)下方；其特征在于，所述处理模块(1)进一步包括用于调整所述处理模块(1)的所述传输装置和所述液体堰(13)的至少调整装置，并且所述调整装置包括至少第一调整元件(19)和至少第二调整元件(20)，其中所述第一调整元件(19)由多个第二调整元件(20)连接到相应的液体堰(13)或者轴承护圈带(9)，以便能够调整所述液体堰(13)和轴承护圈带(9)的水平对准。